Məhsullar

Əgər siz çöküntü kamerasında qeyri-bərabər qaz axını və ya hissəciklərin çirklənməsi ilə qarşılaşmısınızsa, VETEK CVD SiC örtüklü qrafit duş başlığı bunu həll etmək üçün nəzərdə tutulub. O, termal sabitlik və asan emal üçün yüksək saflıqda izostatik qrafitlə başlayır, sonra səthi möhürləyən, aşındırıcı qazlara (HCl və ya NF₃ kimi) müqavimət göstərən və qazın çıxmasının qarşısını alan sıx CVD Silikon Karbid (SiC) örtüyü əldə edir. Nəticə, vafli üzərində vahid axın təmin edən, yüksək temperaturlu epitaksiyanı idarə edən və çılpaq qrafit və ya kvarsdan daha uzun müddət davam edən qaz paylayıcı lövhədir ki, bu da onu CVD, PECVD, MOCVD, silikon epitaksiya və SiC epitaksiya prosesləri üçün etibarlı komponentə çevirir. Biz həmçinin xüsusi deşik nümunələri və ölçüləri təklif edirik, çünki heç bir iki reaktor tam olaraq eyni deyil.

VeTek Yarımkeçirici Yüksək Təmizlik Silikon Karbid (SiC) Tozu SiC kristallarının böyüməsi, yarımkeçirici materiallar və qabaqcıl keramika tətbiqləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır. Qabaqcıl təmizləmə texnologiyası və ciddi keyfiyyətə nəzarət vasitəsilə, SiC tozumuz ultra aşağı çirklənmə səviyyələri, sabit hissəcik paylanması və tələbkar istehsal prosesləri üçün əla uyğunluq təklif edir.

SiC PVT kristal artım qurğularında qrafit hissələri uzun müddət çox yüksək temperaturda işlədilir. VeTek-in PyC ilə örtülmüş qrafit halqası bu növ vəzifə üçün hazırlanmışdır. Pirolitik karbon təbəqəsi CVD vasitəsilə yüksək təmizlikli qrafitin üzərinə çökür. Bu, hissəyə daha yaxşı səth sabitliyi və əməliyyat zamanı daha az hissəciklərin çıxmasını təmin edir. Buxar axını və istiliyin soba daxilində necə yayılmasını idarə etməyə kömək etmək üçün adətən onu termal sahə sahəsinə qoyursunuz. Kaplama həmçinin 2200°C-dən yuxarı qalxdıqda qrafit sublimasiyasını yavaşlatır, bu da bütün komponentin daha uzun müddət dayanmasına səbəb olur.

Vafli izləmə zonasını əhatə etmək üçün nəzərdə tutulmuş Solid SiC Focus Ring xətti plazma paylanması və dəqiq kənardan mərkəzə aşındırma profillərini təmin edir. Bu premium β-SiC komponentləri Vetek Semiconductor (Wuyi Tianyao New Material Technology Co., LTD) tərəfindən xüsusi Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (CVD) texnologiyasından istifadə etməklə tikilir. Xammalı sıx, bağlayıcısız matrisə buxarlayaraq, Vetek köhnə materiallarda rast gəlinən məsaməli mikro boşluqları aradan qaldırır. Standart kvars və ya silikon qoruyucu ilə müqayisədə bizim CVD SiC komponentlərimiz korroziyaya uğrayan halogen qazlara qarşı daha yaxşı dayanır, vafli 7 nanometrdən aşağı məntiqdə və sıx yaddaş çipinin istehsalında qoruyur. Əlavə sorğunu səbirsizliklə gözləyirik.

VeTek-dən olan bu AMAT 0200-03201 Wafer Lift Pin yüksək təmizlikli qrafitlə başlayır, sonra üstünə sıx CVD SiC örtüyü əlavə edirik. 300 mm epitaksiya sistemləri və Tətbiqi Materiallar EPI reaktorları üçün hazırlanmışdır. Niyə qrafit və SiC? Qrafit istiliyi çox yaxşı idarə edir. SiC təbəqəsi aşındırıcı qazları qəbul edir və tez köhnəlmir. İncə divar dizaynı? Bu, daha təmiz vafli qaldırma və yerləşdirmə, daha az hissəcik və yüksək temperaturda daha uzun hissə ömrü üçündir. Biz həmçinin ASM, Aixtron və LPE sistemləri üçün oxşar SiC örtüklü qrafit hissələri hazırlayırıq. Sorğunuzu gözləyirik.

Vetek Semiconductor, VEECO MOCVD sistemləri üçün xüsusi olaraq GaN LED-ləri, mavi-yaşıl LED-lər və dərin UV LED artımı kimi LED epitaksi işi üçün hazırlanmış vafli daşıyıcıları hazırlayır. Bu daşıyıcılar yüksək təmizlikli qrafitlə başlayır və sıx CVD silisium karbid (SiC) örtüyü əldə edir. Bu birləşmə MOCVD-də gördüyünüz yüksək temperaturda yaxşı dayanır - yaxşı istilik sabitliyi, korroziyaya davamlılıq və örtük davamlıdır.