VeTek Semiconductor yarımkeçiricilərin emalı sahəsində sizin innovativ tərəfdaşınızdır. Yarımkeçirici dərəcəli Silikon Karbid Seramika material kombinasiyaları, komponentlərin istehsal imkanları və tətbiq mühəndisliyi xidmətlərinin geniş portfelimizlə biz sizə mühüm çətinliklərin öhdəsindən gəlməyə kömək edə bilərik. Mühəndislik texniki Silikon Karbid keramika müstəsna material performansına görə yarımkeçirici sənayedə geniş tətbiq olunur. VeTek Semiconductor-un ultra təmiz Silikon Karbid keramikaları tez-tez yarımkeçiricilərin istehsalı və emalının bütün dövrü ərzində istifadə olunur.
DIFFUSION & LPCVD EMAL
VeTek Semiconductor, toplu diffuziya və LPCVD tələbləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmış mühəndis keramika komponentlərini təmin edir, o cümlədən:
● Buferlər və tutacaqlar
● Enjektorlar
● Astarlar və emal boruları
● Silikon Karbid Konsol Avarları
● vafli qayıqlar və postamentlər
ETCH PROSESİNİN KOMPONENTLƏRİ
Plazma aşındırma prosesinin sərtliyi üçün hazırlanmış yüksək təmizlikli komponentlərlə çirklənməni və planlaşdırılmamış texniki xidmətin minimuma endirilməsi, o cümlədən:
● Fokus halqaları
● Başlıqlar
● Qalxanlar
● Duş başlıqları
● Pəncərələr / Qapaqlar
● Digər fərdi komponentlər
SÜRƏTLİ TERMİK EMAL VƏ EPİTAKSİAL PROSES KOMPONENTLƏRİ
VeTek Semiconductor yarımkeçirici sənayesində yüksək temperaturlu istilik emal tətbiqləri üçün uyğunlaşdırılmış qabaqcıl material komponentləri təqdim edir. Bu proqramlar RTP, Epi prosesləri, diffuziya, oksidləşmə və tavlamanı əhatə edir. Texniki keramikamız etibarlı və ardıcıl performans təmin edərək, termal zərbələrə tab gətirmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. VeTek Semiconductor komponentləri ilə yarımkeçirici istehsalçıları yarımkeçirici istehsalının ümumi uğuruna töhfə verərək səmərəli və yüksək keyfiyyətli istilik emalına nail ola bilərlər.
● Diffuzorlar
● İzolyatorlar
● Qəbuledicilər
● Digər xüsusi istilik komponentləri
Əsas Xüsusiyyətlər
● Ultra yüksək təmizlik: SiC tərkibi >99,96%, sərbəst silisium <0,1%, metalın çirklənməsini minimuma endirir.
● Əla yüksək temperatur performansı: 1600°C (oksidləşdirici) / 1700°C (azaldıcı) qədər iş temperaturu.
● Sürətli termal dövrlərdə etibarlı performans üçün üstün termal şok müqaviməti və aşağı istilik genişlənməsi.
● Yüksək mexaniki möhkəmlik (sıxılma >600 MPa) və texnoloji qazlara və plazmalara qarşı kimyəvi təsirsizlik.
● Diffuziya/LPCVD, etch, RTP və epi proseslər üçün hərtərəfli məhsul çeşidi — vafli qayıqlardan tutmuş fokus halqalarına və xüsusi hissələrə qədər.
● Uzun xidmət müddəti və azaldılmış hissəcik əmələ gəlməsi, texniki xidmət tezliyini azaltmağa və məhsuldarlığı yaxşılaşdırmağa kömək edir.
Məhsulun spesifikasiyası
Yenidən kristallaşdırılmış silisium karbidinin fiziki xassələri
| Əmlak |
Tipik Dəyər |
| İş temperaturu (°C) |
1600°C (oksigenlə), 1700°C (azaldıcı mühit) |
| SiC / SiC tərkibi |
> 99,96% |
| Si / Pulsuz Si məzmunu |
< 0,1% |
| Kütləvi sıxlıq |
2,60-2,70 q/sm³ |
| Görünən məsaməlilik |
< 16% |
| Sıxılma gücü |
> 600 MPa |
| Soyuq əyilmə gücü |
80-90 MPa (20°C) |
| İsti əyilmə gücü |
90-100 MPa (1400°C) |
| Termal genişlənmə @1500°C |
4,70 × 10⁻⁶/°C |
| İstilik keçiriciliyi @1200°C |
23 Vt/m·K |
| Elastik modul |
240 GPa |
| Termal şok müqaviməti |
Çox yaxşı |
Tətbiqlər
Yarımkeçirici proseslərin müxtəlif ehtiyaclarını ödəmək üçün VeTek hədəflənmiş Silikon Karbid Seramika məhsulları təklif edir. Aşağıdakı cədvəl onları əsas tətbiq sahələrinə görə təsnif edir:
| Tətbiq sahəsi |
Tipik Məhsullar |
Tətbiq təsviri |
| Diffuziya və LPCVD |
SiC vafli qayıqlar, konsol avarları, proses boruları, laynerlər, injektorlar,tıxaclar və tutacaqlar
|
Partiya diffuziya və LPCVD sobaları üçün yüksək təmizlikli SiC komponentləri; əla istilik dayanıqlığı və 1600–1700°C-ə qədər kimyəvi müqavimət, aşağı çirklənmə. |
| Plazma Etch Prosesi |
Fokus üzükləri, nozzler, qalxanlar, duş başlıqları, pəncərələr/qapaqlar, xüsusi aşındırma komponentləri |
Plazma aşındırma mühitləri üçün hazırlanmış yüksək təmizlikli SiC hissələri; hissəciklərin əmələ gəlməsini və planlaşdırılmamış texniki xidmətin minimuma endirilməsi, üstün plazma müqaviməti. |
| RTP / Epitaksial / Termal Emal |
həssaslar, diffuzorlar, izolyatorlar, xüsusi istilik komponentləri |
RTP, epi, diffuziya, oksidləşmə və yumşalma üçün komponentlər; istilik zərbələrinə tab gətirmək və ardıcıl yüksək temperatur performansını təmin etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. |
| SiC Crystal Growth (PVT) |
Yüksək təmizlik SiC tozu,7N CVD SiC xammalı, toxum bağlama ilə əlaqəli hissələr |
Ultra təmiz SiC mənbə materialları və PVT SiC monokristal artımı üçün dəstəkləyici komponentlər, məhsuldarlığı və kristal keyfiyyətini yaxşılaşdırır. |
| Gofretlə işləmə və daşıyıcılar |
Şaquli/üfüqi SiC vafli qayıqlar, silikon kaset qayıqları, postamentlər, möhürlü üzüklər
|
Yüksək temperaturda emal zamanı istilik vahidliyi, mexaniki dayanıqlıq və minimal çirklənməni təmin edən dəqiq daşıyıcılar və sızdırmazlıq komponentləri. |
Daha ətraflı proses uyğun həllər üçün müraciət edinOksidləşmə və Diffuziya Ocağıəlaqəli səhifələr.
Çində peşəkar Silikon Karbid Seramik istehsalçısı və təchizatçısı olaraq öz fabrikimiz var. İstər bölgənizin xüsusi ehtiyaclarını ödəmək üçün fərdi xidmətlərə ehtiyacınız olsun, istərsə də Çin istehsalı olan qabaqcıl və davamlı Silikon Karbid keramika almaq istəsəniz,bizə mesaj buraxın.
