RTA/RTP Prosesi

VeTek Yarımkeçirici yüksək saflıqda qrafitdən və SiC örtüyündən hazırlanmış RTA/RTP Prosesi vafli daşıyıcısını təmin edir.5 ppm-dən aşağı çirk.

Sürətli tavlama sobası materialın tavlanması müalicəsi üçün bir növ avadanlıqdırRTA/RTP Prosesi, materialın istilik və soyutma prosesini idarə edərək, materialın kristal quruluşunu yaxşılaşdıra, daxili gərginliyi azalda və materialın mexaniki və fiziki xüsusiyyətlərini yaxşılaşdıra bilər. Sürətli qızartma sobasının kamerasındakı əsas komponentlərdən biri vafli daşıyıcıdır/gofret qəbuledicisivaflilərin yüklənməsi üçün. Proses kamerasında vafli qızdırıcı kimi, budaşıyıcı lövhəsürətli isitmə və temperatur bərabərləşdirmə müalicəsində mühüm rol oynayır.

Silikon karbid, alüminium nitrid və qrafit silisium karbid sürətli qızdırılan soba üçün mövcud materiallardır və bazarda əsas seçim qrafit vəsilisium karbid örtüyü materiallar kimi. 

Aşağıdakılarxüsusiyyətlər və əla performansVeTek Yarımkeçirici SiC örtüklü RTA RTP proses vafli daşıyıcısı:

-Yüksək Temperatur Sabitliyi: SiC örtüyü həddindən artıq temperaturda belə strukturun bütövlüyünü və mexaniki möhkəmliyini təmin edərək, yüksək temperaturda yüksək dayanıqlıq nümayiş etdirir. Bu qabiliyyət onu tələbkar istilik müalicəsi prosesləri üçün çox uyğun edir.

-Əla istilik keçiriciliyi: SiC örtük təbəqəsi sürətli və vahid istilik paylanmasına imkan verən müstəsna istilik keçiriciliyinə malikdir. Bu, daha sürətli istilik emalına çevrilir, istilik vaxtını əhəmiyyətli dərəcədə azaldır və ümumi məhsuldarlığı artırır. İstilik ötürmə səmərəliliyini artırmaqla, daha yüksək istehsal səmərəliliyinə və yüksək məhsul keyfiyyətinə töhfə verir.

-Kimyəvi təsirsizlik: Silikon karbidin xas kimyəvi təsirsizliyi müxtəlif kimyəvi maddələrin korroziyaya qarşı əla müqavimətini təmin edir. Karbonla örtülmüş silisium karbid vafli daşıyıcımız vafliləri çirkləndirmədən və zədələmədən müxtəlif kimyəvi mühitlərdə etibarlı şəkildə işləyə bilər.

-Səthin hamarlığı: CVD silisium karbid təbəqəsi yüksək dərəcədə düz və hamar bir səth təmin edərək, termik emal zamanı vaflilərlə sabit təması təmin edir. Bu, optimal emal nəticələrini təmin edərək əlavə səth qüsurlarının tətbiqini aradan qaldırır.

-Yüngül və Yüksək Güclü: SiC ilə örtülmüş RTP vafli daşıyıcımız yüngüldür, lakin diqqətəlayiq gücə malikdir. Bu xüsusiyyət vaflilərin rahat və etibarlı yüklənməsini və boşaldılmasını asanlaşdırır.

RTA RTP Process gofret daşıyıcısından necə istifadə etmək olar:

VeTek Semiconductor-un SiC örtüklü vafli qəbuledicisi və qəbuledici qapağı

RTA RTP qəbuledicisi RTA RTP vafli daşıyıcısı RTP qabı (RTA sürətli istilik müalicəsi üçün) RTP qabı (RTA sürətli istilik müalicəsi üçün) RTP qəbuledicisi RTP Wafer Dəstək Tablası