Məhsullar

VeTek Semiconductor-un Aixtron G10-SiC platforması üçün Solid SiC aksesuarları SiC epitaksial böyüməsinin tələbkar istilik və kimyəvi mühiti üçün nəzərdə tutulmuş yüksək təmizlikli, tam sıx silisium karbid komponentləridir. Bu hissələr güc qurğusunun istehsalında istifadə olunan yüksək məhsuldarlıqlı 9×150 mm / 6×200 mm planetar reaktor konfiqurasiyasını dəstəkləyən əla yüksək temperatur sabitliyi, kimyəvi müqavimət və ultra aşağı hissəciklər yaradır.

CVD SiC ilə örtülmüş qrafit hissələri üçün VETEK Professional Təmizləmə Xidməti GaN / AlN / AlGaN epitaksial proseslərində istifadə olunan Aixtron / Veeco MOCVD avadanlığının susseptorları və qrafit komponentləri üçün nəzərdə tutulmuş ixtisaslaşdırılmış texniki xidmətdir. Bizim xüsusi təmizləmə prosesimiz yerüstü yaddaş effektini hərtərəfli aradan qaldırır, reaktorda sabit qaz axını bərpa edir və 100 µm CVD SiC örtüyünü mütləq sıfır qalınlıq itkisi və sıfır metal qalığı ilə ciddi şəkildə qoruyur.

VETEK CVD SiC örtüklü qrafit vafli daşıyıcısı yarımkeçirici epitaksiya prosesləri üçün nəzərdə tutulmuş yüksək performanslı vafli dəstək komponentidir. Məhsul substrat kimi yüksək təmizlikli qrafitdən istifadə edir və vahid CVD silisium karbid (SiC) təbəqəsi ilə örtülür, əla istilik sabitliyi, kimyəvi müqavimət və hissəciklərə nəzarət təmin edilir. Kritik qrafit həssas komponenti olaraq, reaksiya kamerasının içərisindəki vafliləri birbaşa dəstəkləyir və vahid temperatur paylanması və sabit epitaksial böyümə şəraitini qorumağa kömək edir.

VeTek Yarımkeçirici yüksək məhsuldar SiC Crystal Growth (PVT prosesi), yarımkeçirici substrat istehsalı və qabaqcıl funksional keramika üçün xüsusi olaraq hazırlanmış yüksək keyfiyyətli Yüksək Təmizlik Silikon Karbid (SiC) Pudrası təqdim edir. Ultra təmiz təmizləmə texnologiyası vasitəsilə işlənmiş yüksək təmizlikli SiC xammalımız ciddi yarımkeçirici istehsal tələblərinə cavab vermək üçün müstəsna dərəcədə aşağı iz metal səviyyələri, təkrarlanan sublimasiya performansı və yüksək ardıcıl partiyadan partiyaya keyfiyyət təmin edir.

TEL yarımkeçirici avadanlığı üçün VETEK Yüksək Təmizlikdə Kvars Vafli Qayığı yarımkeçirici dərəcəli kvars materialından istehsal olunub və diffuziya, oksidləşmə, yumşalma və CVD kimi yüksək temperatur proseslərində vafli ilə işləmək üçün nəzərdə tutulub. Mükəmməl istilik sabitliyi, kimyəvi müqavimət və aşağı çirklənmə xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici istehsal tətbiqləri üçün etibarlı vafli dəstəyi təmin edir.

VETEK məsaməli TaC ilə örtülmüş qrafit halqası PVT (Fiziki Buxar Nəqliyyatı) prosesi vasitəsilə SiC tək kristalının böyüməsi üçün hazırlanmış istilik sahəsi komponentidir. Yüksək təmizlikdə məsaməli qrafitdən istehsal olunur və CVD texnologiyasından istifadə edərək tantal karbid (TaC) ilə örtülür. Dizayn yüksək temperatur sabitliyi, kimyəvi davamlılıq və idarə olunan istilik sahəsinin performansını hədəfləyir. Çirklənməni minimuma endirməklə və prosesin ardıcıllığını dəstəkləməklə, bu komponent təkrarlana bilən SiC kristal artımı nəticələrinə kömək edir.