Məhsullar

VETEK məsaməli TaC ilə örtülmüş qrafit halqası PVT (Fiziki Buxar Nəqliyyatı) prosesi vasitəsilə SiC tək kristalının böyüməsi üçün hazırlanmış istilik sahəsi komponentidir. Yüksək təmizlikdə məsaməli qrafitdən istehsal olunur və CVD texnologiyasından istifadə edərək tantal karbid (TaC) ilə örtülür. Dizayn yüksək temperatur sabitliyi, kimyəvi davamlılıq və idarə olunan istilik sahəsinin performansını hədəfləyir. Çirklənməni minimuma endirməklə və prosesin ardıcıllığını dəstəkləməklə, bu komponent təkrarlana bilən SiC kristal artımı nəticələrinə kömək edir.

VETEK CVD Silikon Karbid (SiC) ilə örtülmüş qrafit RTP RTA daşıyıcısı yarımkeçiricilərin istehsalında istifadə olunan sürətli termal emal (RTP) və sürətli termal yumşalma (RTA) sistemləri üçün nəzərdə tutulmuşdur. Sıx CVD SiC örtüyü ilə yüksək saflıqda izostatik qrafitdən hazırlanmışdır, o, əla istilik sabitliyi, əla temperatur vahidliyi, üstün kimyəvi müqavimət və ultra aşağı hissəciklərin əmələ gəlməsini təmin edir. Təkrarlanan sürətli isitmə və soyutma dövrlərinə tab gətirmək üçün hazırlanmış daşıyıcı, silikon vafli tavlama və digər yüksək temperaturlu yarımkeçirici tətbiqlər üçün etibarlı vafli dəstəyi və sabit proses performansını təmin edir.

VETEK CVD TaC ilə örtülmüş süpürgəci yüksək təmizlikli izostatik qrafit substratı sıx CVD tantal karbid (TaC) örtüyü ilə birləşdirərək müstəsna istilik sabitliyi, korroziyaya davamlılıq və tələbkar yarımkeçirici epitaksiya üçün aşağı hissəciklərin əmələ gəlməsini təmin edir. SiC, GaN və AlN epitaksial artım üçün nəzərdə tutulmuşdur, çirklənməni minimuma endirir, vafli temperaturun vahidliyini yaxşılaşdırır və yüksək temperaturlu MOCVD və CVD proseslərində komponentlərin xidmət müddətini uzadır.

VeTek Semiconductor-dan CVD SiC ilə örtülmüş RTP qəbuledicisi bütün yarımkeçiricilərin istehsalı zamanı istifadə olunan sürətli istilik emal (RTP) və sürətli termal yumşalma (RTA) avadanlığına xidmət edir. Substrat yüksək təmizlikli izostatik qrafitdən işlənir, onun üzərində sıx CVD silisium karbid (SiC) təbəqəsi çökür. Bu konstruksiya yüksək istilik keçiriciliyi, möhkəm kimyəvi təsirsizlik və təkrar yüksək temperatur dövriyyəsi altında davamlı ölçü sabitliyi verir.

Yarımkeçirici kristalların böyüməsi üçün tələb olunan tətbiqlər üçün VETEK üç hissəli qrafit kroni prosesin tələb etdiyi sabitliyi, təmizliyi və istilik bərabərliyini təmin edir. Əlavə SiC, TaC və ya PyC örtükləri ilə yüksək dərəcəli izostatik qrafitdən hazırlanmışdır - onun bölünmüş dizaynı yalnız rahatlıq üçün deyil. O, istilik gərginliyini aktiv şəkildə azaldır, təmiri daha sürətli edir və dövriyyədən sonra dövrü yerinə yetirməyə davam edir.

VETEK PG (Pirolitik Qrafit) Örtülü Üzük vahid istilik paylanması və sabit temperaturun müzakirə oluna bilməyəcəyi yarımkeçirici istilik sahəsi və kristal böyüməsi mühitləri üçün nəzərdə tutulmuşdur. Yüksək təmizlikli qrafit bazadan başlayaraq və sıx Pirolitik Qrafit örtüyü ilə tamamlanan bu komponent müstəsna istilik keçiriciliyi təmin edir, şiddətli termal şoka tab gətirir və həddindən artıq temperaturda uzun müddət ərzində ölçülərini saxlayır. Siz kristal inkişaf sobalarında, yüksək temperaturlu sobalarda və yarımkeçiricilər üçün termal sahə birləşmələrində geniş istifadə olunan bu üzükləri tapa bilərsiniz - dəqiq temperatur nəzarəti prosesin təkrarlanmasını və son məhsulun keyfiyyətini birbaşa idarə edən hər yerdə.