Məsaməli qrafit

SiC substrat istehsalçıları isti sahə prosesi üçün adətən məsaməli qrafit silindrli pota dizaynından istifadə edirlər. Bu dizayn buxarlanma sahəsini və yük həcmini artırır. Kristal qüsurlarını aradan qaldırmaq, kütlə ötürülməsini sabitləşdirmək və SiC kristal keyfiyyətini artırmaq üçün yeni bir proses hazırlanmışdır. Termal genişlənmə və gərginliyin aradan qaldırılması üçün toxumsuz kristal qabın fiksasiya metodunu özündə birləşdirir. Bununla belə, pota qrafitinin və məsaməli qrafitin məhdud bazar təchizatı SiC monokristallarının keyfiyyətinə və məhsuldarlığına problemlər yaradır.

VeTek Yarımkeçirici Məsaməli Qrafitin Əsas Xüsusiyyətləri:

1.Yüksək temperatur mühitinə dözümlülük - Məhsul əla istilik müqaviməti nümayiş etdirərək 2500 dərəcə Selsi mühitinə tab gətirə bilər.

2.Ciddi məsamə nəzarəti - VeTek Semiconductor davamlı performansı təmin edərək, məsaməliyə sıx nəzarət edir.

3.Ultra yüksək təmizlik - İstifadə olunan məsaməli qrafit materialı ciddi təmizləmə prosesləri vasitəsilə yüksək səviyyəli təmizliyə nail olur.

4.Mükəmməl səth hissəciklərini bağlama qabiliyyəti - VeTek Semiconductor mükəmməl səth hissəciklərini bağlama qabiliyyətinə və toz yapışmasına qarşı müqavimətə malikdir.

5.Qaz nəqli, diffuziya və vahidlik - Qrafitin məsaməli strukturu səmərəli qaz nəqlini və diffuziyasını asanlaşdırır, nəticədə qazların və hissəciklərin vahidliyi yaxşılaşır.

6.Keyfiyyətə nəzarət və sabitlik - VeTek Yarımkeçirici kristal artımında keyfiyyəti təmin etmək üçün yüksək təmizliyi, aşağı çirkliliyi və kimyəvi sabitliyi vurğulayır.

7. Temperatur nəzarəti və vahidlik - Məsaməli qrafitin istilik keçiriciliyi temperaturun vahid paylanmasına imkan verir, böyümə zamanı stress və qüsurları azaldır.

8. Təkmilləşdirilmiş məhlulun diffuziyası və böyümə sürəti - Məsaməli struktur kristalların böyümə sürətini və vahidliyini artıraraq, həll olunan maddənin bərabər paylanmasını təşviq edir.