Yüksək təmizliyin yenilikçi istehsalçısı
Silisium karbid (SiC) və tantal karbid (TaC)
keramik örtüklər

A: Bəli, mütləq fərdiləşdirmə bizim əsas gücümüzdür. Biz sizin dəqiq çertyojlarınıza əsaslanaraq, yarımkeçirici avadanlığınızı mükəmməl şəkildə uyğunlaşdırmaq üçün ən uyğun substratları seçərək və onları yüksək vahid CVD SiC və ya TaC örtükləri ilə uyğunlaşdıraraq uçdan uca fərdi emal təmin edirik.

A: Biz ciddi xammal süzgəcini və qabaqcıl yüksək temperaturlu təmizləmə proseslərini həyata keçiririk. Kaplamalarımızın və qrafit komponentlərimizin çip sənayesinin ultra təmiz, hissəciksiz standartlarına cavab verməsini təmin etmək üçün bütün elementlər ICP-OES və GDMS kimi peşəkar sınaq avadanlığından istifadə edilərək iz-analiz edilir.

A: Bizim istehsal müəssisəmiz ISO9001 keyfiyyət idarəetmə sisteminə ciddi şəkildə uyğun olaraq fəaliyyət göstərir. Substratın emalından tutmuş son kimyəvi buxar çökdürülməsinə (CVD) qədər hər bir addım göndərilməzdən əvvəl ciddi ölçü və səth dəqiqliyi yoxlanışından keçir.

Cavab: Bəli, biz xüsusi qapaqlar, vafli qayıqlar və ya dummy vaflilər üçün nümunə qiymətləndirilməsini alqışlayırıq. Siz xüsusi əməliyyat parametrlərinizi və ya avadanlıq modellərinizi (məsələn, LPE, Aixtron və ya ASM) təqdim edə bilərsiniz və biz onun istilik və proses tələblərinizə cavab verdiyinə əmin olmaq üçün sınaq nümunəsini təqdim edəcəyik.

A: Standart konfiqurasiyalar və ya mövcud inventar üçün biz dərhal göndəririk. Dəqiq emal və CVD örtüyünün emalını tələb edən xüsusi məhsullar üçün istehsal müddətləri dizaynın mürəkkəbliyindən və partiyanın həcmindən asılı olaraq adətən 3 ilə 6 həftə arasında dəyişir.

A: Biz istilik sahələrinizi və komponentlərin istifadə müddətini optimallaşdırmaq üçün 24/7 onlayn texniki məsləhət təklif edirik. Prosesin inteqrasiyası zamanı hər hansı əməliyyat problemi və ya konsentrasiyanın dəyişməsi baş verərsə, Ar-Ge mühəndislərimiz tez və praktik həllər təqdim etmək üçün sizinlə uzaqdan işləyəcəklər.