Silikon Karbid Kaplama

VeTek-dən olan bu AMAT 0200-03201 Wafer Lift Pin yüksək təmizlikli qrafitlə başlayır, sonra üstünə sıx CVD SiC örtüyü əlavə edirik. 300 mm epitaksiya sistemləri və Tətbiqi Materiallar EPI reaktorları üçün hazırlanmışdır. Niyə qrafit və SiC? Qrafit istiliyi çox yaxşı idarə edir. SiC təbəqəsi aşındırıcı qazları qəbul edir və tez köhnəlmir. İncə divar dizaynı? Bu, daha təmiz vafli qaldırma və yerləşdirmə, daha az hissəcik və yüksək temperaturda daha uzun hissə ömrü üçündir. Biz həmçinin ASM, Aixtron və LPE sistemləri üçün oxşar SiC örtüklü qrafit hissələri hazırlayırıq. Sorğunuzu gözləyirik.

Vetek Semiconductor, VEECO MOCVD sistemləri üçün xüsusi olaraq GaN LED-ləri, mavi-yaşıl LED-lər və dərin UV LED artımı kimi LED epitaksi işi üçün hazırlanmış vafli daşıyıcıları hazırlayır. Bu daşıyıcılar yüksək təmizlikli qrafitlə başlayır və sıx CVD silisium karbid (SiC) örtüyü əldə edir. Bu birləşmə MOCVD-də gördüyünüz yüksək temperaturda yaxşı dayanır - yaxşı istilik sabitliyi, korroziyaya davamlılıq və örtük davamlıdır.

Yarımay LPE SiC reaktorlarında istifadə olunan qrafit komponentidir və əsasən kameranın isti zonası ətrafında quraşdırılır. O, vafli ilə birbaşa təmasda olmasa da, epitaksial böyümə zamanı qaz axınının sabitliyində və reaktorun işində hələ də rol oynayır. Yüksək temperatur və reaktiv proses şərtlərini idarə etmək üçün komponent adətən CVD SiC örtüyü ilə qorunur, TaC örtüyü isə bəzi tətbiqlər üçün də mövcuddur. VETEK həmçinin SiC epitaksi sistemləri üçün qrafit keçə izolyasiyası və digər örtülmüş qrafit hissələri təmin edir.

8 düymlük SiC epi üst halqa yarımkeçirici reaktorlar üçün aparat hissəsidir. Si/SiC epitaksisi və MOCVD/CVD sistemlərində işləyir. Bu üzük kameranın içərisindəki istiliyi sabitləşdirir. O, həmçinin qaz axınına nəzarət edir. Material yüksək təmizliyə malik CVD Silikon Karbiddir. Qrafitin qazdan çıxarılması problemi yoxdur. O, həmçinin istehsal zamanı hissəciklərin çirklənməsini azaldır. Sorğularınızı alqışlayırıq.

VETEK MOCVD SiC örtülmüş süpürgəçi, LED və mürəkkəb yarımkeçirici epitaksial artım üçün xüsusi olaraq hazırlanmış, dəqiqliklə işlənmiş daşıyıcı həlldir. O, mürəkkəb MOCVD mühitlərində müstəsna istilik vahidliyi və kimyəvi təsirsizliyi nümayiş etdirir. VETEK-in ciddi CVD çökdürmə prosesindən istifadə edərək, biz yarımkeçirici istehsalınızın hər bir partiyası üçün sabit və etibarlı performans təminatını təmin edərək, vafli artım ardıcıllığını artırmağa və əsas komponentlərin xidmət müddətini uzatmağa sadiqik.

Veteksemicon Bərk Silikon Karbid (SiC) Fokuslama Halqası, plazma paylanmasına, istilik vahidliyinə və vafli kənar effektlərinə dəqiq nəzarətin vacib olduğu qabaqcıl yarımkeçirici epitaksiya və plazma aşındırma proseslərində istifadə olunan kritik istehlak komponentidir. Yüksək təmizlikdə bərk silisium karbiddən hazırlanmış bu fokuslama halqası aqressiv proses şəraitində etibarlı performansa imkan verən müstəsna plazma eroziyaya davamlılığı, yüksək temperaturda dayanıqlığı və kimyəvi təsirsizliyi nümayiş etdirir. Sorğunuzu gözləyirik.