Mocvd suseptoru haqqında bilirsinizmi?

Metal üzvi kimyəvi buxarlanma (MOCVD) prosesində, Suceptor, vafleri dəstəkləmək və çökmə prosesinin vahidliyini və dəqiq bir şəkildə idarə olunmasını təmin etmək üçün cavabdeh olan əsas komponentdir. Onun maddi seçimi və məhsul xüsusiyyətləri birbaşa epitaksial prosesin sabitliyinə və məhsulun keyfiyyətinə təsir göstərir.

Mocvd dəstəyi(Metal-üzvi kimyəvi buxarlanma çökməsi) yarımkeçirici istehsalda əsas proses komponentidir. Əsasən mocvd (metal-üzvi kimyəvi buxar çöküntüsü) prosesində nazik film çökməsi üçün vafleri dəstəkləmək və qızdırmaq üçün istifadə olunur. Sualeptorun dizaynı və material seçimi son məhsulun vahidliyi, səmərəliliyi və keyfiyyəti üçün çox vacibdir.

Məhsul növü və material seçimi:

Mocvd suseptorunun dizaynı və material seçimi müxtəlifdir, ümumiyyətlə proses tələbləri və reaksiya şərtləri ilə müəyyən edilir.Aşağıdakılar ümumi məhsul növləri və onların materiallarıdır:

Sic örtülmüş suseptor(Silikon karbid örtülmüş suseptor):

Təsvir: Substrat və ya digər yüksək temperaturlu materiallar ilə substrat və ya digər yüksək temperaturlu materiallar ilə substrat və digər yüksək temperaturlu materiallar, aşınma müqavimətini və korroziya müqavimətini yaxşılaşdırmaq üçün səthdə CVD sic örtükləri (CVD sic örtüklü).

Tətbiq: Xüsusilə silikon epitaxy və mürəkkəb yarımkeçiricisində yüksək temperatur və yüksək aşındırıcı qaz mühitində mocvd proseslərində geniş istifadə olunur.

Tac örtülmüş subers:

Təsvir: TAC örtüklü (CVD TAC örtüyü) ilə süzün

Tətbiq: Qallium nitridi (Gan) və Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gaas), daha yüksək korroziya müqaviməti və mexaniki gücü tələb edən mocvd proseslərində istifadə olunur.

MOCVD üçün silikon karbid örtüklü qrafit suseptoru:

Təsvir: Substrat qrafitdir və səthi sabitliyi və uzun ömrü yüksək temperaturda təmin etmək üçün CVD SIC örtükləri ilə örtülmüşdür.

Tətbiq: Yüksək keyfiyyətli mürəkkəb yarımkeçirici materiallar istehsal etmək üçün Aixtron Mocvd reaktorları kimi avadanlıqlarda istifadə üçün uyğundur.

EPI dəstəyi (epitaxy tərəfdarı):

Təsvir: Xüsusi olaraq epitaksial böyümə prosesi üçün xüsusi olaraq hazırlanmış, ümumiyyətlə, istilik keçiriciliyini və davamlılığını artırmaq üçün sic örtük və ya TAC örtüyü ilə hazırlanmışdır.

Tətbiq: Silikon Epitaxy və Mürəkkəb Yarımkeçirici Epitaxy-də, voberlərin vahid istilik və çökməsini təmin etmək üçün istifadə olunur.

Yarımkeçirici emalda MOCVD üçün suseptorun əsas rolu:

Vafli dəstək və vahid istilik:

Funksiya: Suseptor, mocvd reaktorlarında gofretləri dəstəkləmək və vahid film çöküntüsünü təmin etmək üçün induksiya istilik və ya digər üsullar vasitəsilə vahid istilik paylamasını təmin etmək üçün istifadə olunur.

İstilik keçiriciliyi və sabitliyi:

Funksiya: Susceptor materiallarının istilik keçiriciliyi və istilik keçiriciliyi vacibdir. SIC örtülmüş Suseptor və TAC örtülmüş Suseptor, yüksək istilik keçiriciliyi və yüksək temperatur müqavimətlərinə görə yüksək temperaturlu proseslərdə sabitliyi qoruya bilər, qeyri-bərabər temperaturun yaranan film qüsurlarından qaçınmaq.

Korroziyaya müqavimət və uzun ömür:

Funksiya: MOCVD prosesində, həssaslıq müxtəlif kimyəvi precursor qazlarına məruz qalır. Sic örtük və TAC örtüyü əla korroziyaya qarşı müqavimət göstərir, material səthi və reaksiya qazı arasındakı qarşılıqlı əlaqəni azaldır və suseptorun xidmət həyatını genişləndirir.

Reaksiya mühitinin optimallaşdırılması:

Funksiya: Yüksək keyfiyyətli həssaslıqdan istifadə etməklə, MOCVD reaktorundakı qaz axını və temperatur sahəsi optimallaşdırılmışdır, vahid film çöküntüsünün prosesini təmin edir və cihazın məhsuldarlığını və performansını yaxşılaşdırır. Adətən MOCVD reaktorları və Aixtron Mocvd avadanlığı üçün susuziyyətlərdə istifadə olunur.

Məhsul xüsusiyyətləri və texniki üstünlükləri：

Yüksək istilik keçiriciliyi və istilik sabitliyi:

Xüsusiyyətlər: SIC və TAC örtülmüş süzgəcdənlər son dərəcə yüksək istilik keçiriciliyi, istiliyi tez və bərabər paylaya bilər və vafizlərin vahid istiliyini təmin etmək üçün yüksək temperaturda struktur sabitliyini qoruya bilər.

Üstünlüklər: Qallium nitridi (Gan) və Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gallium Arsenide (Gaas) kimi mürəkkəb yarımkeçiricilərin epitaksial böyüməsi kimi dəqiq temperaturun idarəsi tələb edən mocvd prosesləri üçün uyğundur.

Əla korroziyaya qarşı müqavimət:

Xüsusiyyətlər: CVD SIC örtükləri və CVD TAC örtüyü son dərəcə yüksək kimyəvi inaktizə sahibdir və xloridlər və flüoridlər kimi yüksək aşındırıcı qazlardan korroziyaya qarşı zərər verə bilər, həssaslığın substratını zərərdən qoruyur.

Üstünlüklər: Suseptorun xidmət həyatını genişləndirin, texniki xidmət tezliyini azaldın və MOCVD prosesinin ümumi səmərəliliyini artırın.

Yüksək mexaniki güc və sərtlik:

Xüsusiyyətlər: SIC və TAC örtüklərinin yüksək sərtliyi və mexaniki gücü, yüksək temperatur və yüksək təzyiq mühitində mexaniki stresə tabe olmaq və uzunmüddətli sabitlik və dəqiqliyi qorumaq üçün susuzluğa imkan verir.

Üstünlüklər: Xüsusilə epitaksial böyümə və kimyəvi buxar çöküntüsü kimi yüksək dəqiqlik tələb edən yarımkeçirici istehsal prosesləri üçün əlverişlidir.

Bazar tətbiqi və inkişaf perspektivləri

Mocvd həssaslıqYüksək parlaqlıq LED, güc elektron cihazları (məsələn, Gan əsaslı Hemts), günəş hüceyrələri və digər optoelektronik cihazların istehsalında geniş istifadə olunur. Daha yüksək performans və daha aşağı enerji istehlakı yarımkeçirici cihazlara artan tələbi ilə, MOCVD texnologiyası, həssas materiallarda və dizaynlarda yenilik sürərək irəliləməyə davam edir. Məsələn, daha yüksək saflıq və aşağı qüsur sıxlığı olan SIC örtük texnologiyasını inkişaf etdirmək və daha böyük gofret və daha mürəkkəb çox qatlı epitaxial proseslərə uyğunlaşmaq üçün suseptorun struktur dizaynını optimallaşdırmaq.

Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd, yarımkeçirici sənayesi üçün inkişaf etmiş örtük materiallarının aparıcı təminatçısıdır. Şirkətimiz sənaye üçün ən qabaqcıl həllərin inkişaf etdirilməsinə yönəldilmişdir.

Əsas məhsul təkliflərimizə CVD Silikon Carbide, Tantalum Carbide (Tac) örtükləri, Toplu SIC (Tac) örtükləri, sic powders və yüksək təmizlikli sic materiallar, sic örtüklü qrafit suseptoru, Tac örtükləri, Tac örtükləri və s.

Vetek yarımkeçiricisi, yarımkeçirici sənayesi üçün qabaqcıl texnologiya və məhsul inkişaf həllərinin inkişaf etdirilməsinə diqqət yetirin. Çində uzunmüddətli tərəfdaş olmağınıza ürəkdən ümid edirik.