Sic örtülmüş epitaxial reaktor palatası

Ümumi məhsul haqqında məlumat

Məhsul işinin şərtləri

Tətbiqi: Veteksemik SIC örtülmüş epitaxial reaktor palatası, yarımkeçirici epitaxial proseslər tələb etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Son dərəcə saf və sabit bir temperaturlu bir mühit təmin etməklə, onu yüksək performanslı güc fişləri və RF cihazları istehsal etmək üçün əsas təməl daşı olan SIC və Gan Epitaxial Wafters keyfiyyətini əhəmiyyətli dərəcədə yaxşılaşdırır.

Təmin edilə bilən xidmətlər: Müştəri tətbiqi ssenarisi təhlili, uyğun materiallar, texniki problemin həlli.

Şirkət Profili: Veteksemikonun 2 laboratoriyası, 20 illik maddi təcrübəsi olan mütəxəssislər qrupu, Ar-Ge və İstehsal, Test və Doğrulama Qabiliyyətləri olan bir mütəxəssislər qrupu var.

VeTeksemicon SIC örtülmüş epitaxial reaktor kamerası əsas üstünlükləri

1. Super korroziyaya qarşı müqavimət

Mənim rəqibim'un reaksiya otağı, substrat səthində son dərəcə sıx, yüksək saflıq silikon karbid örtüklərini qoymaq üçün mülkiyyətçi CVD prosesi istifadə edir. Bu örtük, HCL və H2 kimi yüksək temperaturlu aşındırıcı qazların eroziyasından eroziyadan, ümumiyyətlə, uzunmüddətli istifadədən sonra ənənəvi qrafit komponentlərində meydana gələn səthin qabağının və hissəciklərin problemlərini əsaslı şəkildə həll edir. Bu xarakterik, reaksiya otağının daxili divarının yüz saatlıq davamlı əməliyyatdan sonra, ocaq çirklənməsinin səbəbi əhəmiyyətli dərəcədə azaldılması üçün hamar qalmağı təmin edir.

2. Yüksək temperatur sabitliyi

Silikon karbidinin əla istilik xüsusiyyətləri sayəsində bu reaksiya otağı 1600 ° C-ə qədər davamlı əməliyyat temperaturuna tab gətirə bilər. Termal genişləndirilməsi onun son dərəcə aşağı əmsalı, təkrarlanan sürətlə istilik və soyutma zamanı istilik stresinin yığılmasını, istilik yorğunluğunun yaranmasına və ya struktur zərərinin qarşısını alan termal stresin yığılmasını təmin edir. Bu görkəmli istilik sabitliyi epitaksial proseslər üçün vacib bir proses pəncərəsi və epitaksial proseslər üçün etibarlılıq zəmanəti, xüsusən də yüksək temperaturlu mühit tələb edən SIC Homoepitaxy təmin edir.

3. Yüksək saflıq və aşağı çirklənmə

Son cihaz performansında epitaksial qat keyfiyyətinin həlledici təsirindən xəbərdarıq. Buna görə, Veteksemik, 99.9995% -dən çox səviyyəyə çatmağını təmin edərək, ən yüksək səviyyəli örtük saflığını təqib edir. Belə yüksək saflıq, metal çirklərin (məsələn, fe, cr, ni və s. Kimi, bu çirklərin epitaksial qat kristalının keyfiyyətinə görə ölümcül təsirindən çəkinmək üçün metal çirklərin miqrasiyasını təsirli şəkildə bədd edir. Bu, yüksək performanslı, yüksək etibarlılıqdan enerji yarımkeçiriciləri və radio tezliyi cihazları istehsal etmək üçün möhkəm bir maddi bir təməl yaradır.

4. Uzun ömür dizaynı

Sikered və ya adi qrafit komponentləri ilə müqayisədə, SIC örtükləri ilə qorunan reaksiya otaqları bir neçə dəfə daha uzun müddət xidmət ömrünü təklif edir. Bu, ilk növbədə, aspratın hərtərəfli qorunması ilə əlaqədardır, korroziv proses qazları ilə birbaşa təmasın qarşısını alır. Bu uzadılmış ömrü birbaşa əhəmiyyətli bir xərc faydalarına çevrilir-müştərilər, kamera komponentlərinin dövri dəyişdirmə ilə əlaqəli avadanlıqların iş vaxtı, ehtiyat hissələri satınalmalarını və texniki xidmət xərclərini əhəmiyyətli dərəcədə azalda bilər, bununla da ümumi istehsal əməliyyat xərclərini effektiv şəkildə azaldır.

5. Ekoloji zəncir yoxlama təsdiqlənməsi

Veteksemik SIC örtülmüş Epitaxial Reaktoru Palatasının 'Ekoloji zənciri yoxlanılması, beynəlxalq standart sertifikatlaşdırılan xammalları və yeni enerji sahələrində etibarlılığını və davamlılığını təmin etmək üçün bir sıra patentləşdirilmiş texnologiyalara sahibdir.

Ətraflı texniki xüsusiyyətlər, ağ sənədlər və ya nümunə test tənzimləmələri üçün, Veteksemikanın necə proses səmərəliliyinizi necə inkişaf etdirə biləcəyini araşdırmaq üçün texniki dəstək qrupumuzla əlaqə saxlayın.