Monokristal silikon üçün çarpacaq

CZ (czochralski) metodunda, bir kristal bir kristal, əridilmiş polikristral silikon ilə təmasda bir monokristal toxumu gətirərək böyüyür. Toxum yavaş-yavaş dönərkən tədricən yuxarıya doğru çəkilir. Bu müddətdə, çox sayda qrafit hissələri istifadə olunur, onu silikon yarımkeçiricisi istehsalında ən yüksək miqdarda qrafit komponentlərindən istifadə edən metod istifadə edir.

Doğru şəkil, CZ metoduna əsaslanan bir silikon tək kristal istehsal sobasının sxematik bir nümayəndəliyini təmin edir.

Vetek yarımkeçiricinin monokristal buku üçün çarpaz silikon, yarımkeçirici kristalların dəqiq formalaşması üçün sabit və idarə olunan bir mühit təmin edir. Onlar elektron cihazlar üçün yüksək keyfiyyətli materiallar istehsal etmək üçün çox vacib olan Czochralski prosesi və üzmə zonası metodları kimi qabaqcıl texnikalardan istifadə edərək, onlar monokristalline silikonlu içkilərin böyüməsinə kömək edir.

Görkəmli istilik sabitliyi, kimyəvi korroziyaya qarşı müqavimət və minimal istilik genişləndirilməsi üçün mühəndis, bu çarmıxlar davamlılıq və möhkəmlik təmin edir. Struktur bütövlüyü və ya performansını pozmadan sərt kimyəvi mühit mühitinə tab gətirmək və bununla da sona çatmayanların ömrünü uzataraq ardıcıl performansın təmin edilməsi və ardıcıl performansın qorunmasını təmin etmək üçün hazırlanmışdır.

Monokristal silikon üçün Vetek yarımkeçirici çarxların bənzərsiz tərkibi onlara yüksək temperatur emalı şəraitinə dözməyə imkan verir. Bu, yarımkeçirici emal üçün vacib olan müstəsna istilik sabitliyi və saflıq təmin edir. Kompozisiya, həmçinin isti istilik köçürməsini asanlaşdırır, vahid kristallaşmanı təbliğ edir və silikon əriməsində istilik gradientlərini minimuma endirir.

✔ Baza materialının qorunması: TheCVD sic örtükEpitaksial proses zamanı qoruyucu bir təbəqə kimi fəaliyyət göstərir, baza materialını xarici mühitin yaratdığı eroziyadan və zərərdən effektiv şəkildə qoruyur. Bu qoruyucu tədbir avadanlıqların xidmət həyatını çox genişləndirir.

✔ Əla istilik keçiriciliyi: CVD SIC örtüyümüzdə təməl materialından istiliyi örtüklü səthə səmərəli şəkildə ötürülməsi, üstün istilik keçiriciliyi var. Bu, epitaxy zamanı termal idarəetmə səmərəliliyini artırır, avadanlıq üçün optimal işləmə temperaturunu təmin edir.

✔ Təkmilləşdirilmiş film keyfiyyəti: CVD SIC örtüyü, film böyüməsi üçün ideal bir təməl yaratmaq üçün düz və vahid bir səth təmin edir. Lattice uyğunsuzluğu nəticəsində yaranan qüsurları azaldır, epitaxial filmin kristallığı və keyfiyyətini artırır və nəticədə onun performansını və etibarlılığını artırır.