Texnologiya və həllər

Texnologiya və həllər

01 Epitaksiya və aşındırma proseslərində CVD SiC, TaC və Bərk SiC-nin Performans Sərhədləri
05

01 Epitaksiya və aşındırma proseslərində CVD SiC, TaC və Bərk SiC-nin Performans Sərhədləri

Düzgün CVD SiC, TaC örtüyü və ya Solid SiC seçilməsi epitaksiya/aşındırma xətlərində hissəciklərin səviyyəsini və komponentin istifadə müddətini birbaşa müəyyən edir. Bu məqalə sizə sürətli qərarlar qəbul etməyə və riski azaltmağa kömək etmək üçün əsas avadanlığın dəyişdirilməsi həlləri və əsas göstəricilərlə uyğunlaşdırılmış temperatur, atmosfer və proses üzrə aydın seçim sərhədlərini təqdim edir.
Ətraflı Baxın
Su ilə idarə olunan lazer texnologiyası: SiC substratları üçün dəqiq mikro deşiklərin işlənməsi
06

Su ilə idarə olunan lazer texnologiyası: SiC substratları üçün dəqiq mikro deşiklərin işlənməsi

VeTek-in su ilə idarə olunan lazer texnologiyasının 2 mm SiC substratlarında heç bir daralma, minimal HAZ və yarımkeçirici tətbiqlər üçün yüksək məhsuldarlıqla vahid Φ0,15 mm deşiklər təqdim etdiyini kəşf edin.
Ətraflı Baxın
VETEK-AMAT İçi Boş Qaldırıcı Pin Həlli: CVD SiC örtüklü yüksək təmizlikli qrafit substrat
07

VETEK-AMAT İçi Boş Qaldırıcı Pin Həlli: CVD SiC örtüklü yüksək təmizlikli qrafit substrat

Yarımkeçirici avadanlıqların içi boş qaldırıcı sancaqlar üçün ən çətin texniki məsələ xarici səthin örtülməsi deyil, içi boş strukturun daxili divarında sabit və vahid CVD örtüyünün əldə edilməsidir. Daxili divar örtüyünün vahidliyinə nəzarətdən tutmuş daxili buruqların təmizliyinə zəmanətə qədər, hər bir proses addımı vafli məhsuldarlığına birbaşa təsir göstərir. Bu məqalə içi boş qaldırıcı pin daxili divar örtüyünün əsas problemlərini və əsas texniki yolları təhlil edir.
Ətraflı Baxın
X
Biz sizə daha yaxşı baxış təcrübəsi təklif etmək, sayt trafikini təhlil etmək və məzmunu fərdiləşdirmək üçün kukilərdən istifadə edirik. Bu saytdan istifadə etməklə siz kukilərdən istifadəmizlə razılaşırsınız. Məxfilik Siyasəti
Rədd edinQəbul edin