QR kodu
Haqqımızda
Məhsullar
Bizimlə əlaqə saxlayın


Faks
+86-579-87223657

E-poçt

Ünvan
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Çin
|
sənaye |
Yarımkeçiricilərin istehsalı, texniki keramika (epitaksi / aşındırma / PVT kristal böyüməsi) |
|
Proses |
GaN MOCVD, SiC epitaksi, SiC PVT kristal artımı, plazma aşındırma |
|
Həll |
Yüksək təmizlikli qrafit substratı + CVD SiC/TaC örtüklü susseptor, əvvəlcədən qızdırılan halqa, təxribat halqası, yarım ay, fokus halqası; Bərk SiC komponentləri |
|
Xidmətlər |
1:1 rəsm əsaslı fərdiləşdirmə, nümunənin qiymətləndirilməsi, örtüklərin təmizlənməsi və bərpası, GDMS/ICP-OES yoxlama hesabatları, 24/7 texniki dəstək, beynəlxalq logistika |
|
Nəticələr |
• Örtünün təmizliyi 5 ppm-dən aşağı ola bilər, bəziləri 99,99995%-ə çata bilər. • Qalınlığın vahidliyi ±5% daxilində idarə olunur, tipik qalınlıq 100–200 μm • GaN MOCVD prosesi altında qrafit həssaslığının ömrü 500-1000 saata qədər uzadılıb • Kənarların sararması problemini həll etdikdən sonra örtük məhsuldarlığı 50%-dən 90%-ə yüksəldi (daxili qutu) • Aixtron G10, Veeco, ASM, AMEC, TEL daxil olmaqla əsas platformalar üçün 1:1 əvəzetməni dəstəkləyir |
Əsas Nəticə:Düzgün CVD SiC, TaC örtüyü və ya Solid SiC seçilməsi epitaksiya/aşındırma xətlərində hissəciklərin səviyyəsini və komponentin istifadə müddətini birbaşa müəyyən edir. Bu məqalə sizə sürətli qərarlar qəbul etməyə və riski azaltmağa kömək etmək üçün əsas avadanlığın dəyişdirilməsi həlləri və əsas göstəricilərlə uyğunlaşdırılmış temperatur, atmosfer və proses üzrə aydın seçim sərhədlərini təqdim edir.
GaN MOCVD proseslərində qrafit əsaslı SiC ilə örtülmüş həssaslar NH₃/H₂ atmosferi altında 1100°C-də yüzlərlə saat sabit işləyə bilər; lakin, istilik sahəsinin qeyri-bərabərliyi səbəbindən kənar və mərkəzi bölgələr arasında örtüyün xidmət müddəti fərqləri 50%-dən çox ola bilər. SiC PVT kristalının böyüməsi proseslərində, temperatur 1600°C-dən çox olduqda, SiC örtüyü ülviləşməyə və parçalanmağa başlayır, bu da TaC örtüyünə və ya Bərk SiC məhlullarına keçid tələb edir. Yanlış komponent materialının seçilməsinin nəticələri - ən yaxşı halda, hər 2-3 ayda istehlak materiallarının dəyişdirilməsi; ən pis halda, hissəciklərin çirklənməsi səbəbindən bütün vafli sobanın qırıntıları. Bu məqalə VeTek Semiconductor texniki komandası (Dr. Xiao-nun rəhbərliyi altında) tərəfindən yazılmışdır, məqsəd materialları tez bir zamanda uyğunlaşdırmağa, hissəcikləri idarə etməyə və təchizatçıları qiymətləndirməyə kömək edən epitaksiya/aşındırma/PVT mühəndisləri üçün “avadanlıq modeli → proses şəraiti → komponent seçimi → həyat boyu gözlənti” sistemli qərar çərçivəsini yaratmağa yönəlmişdir.
Əsas Nəticə:“Temperatur → atmosfer → proses növü” üç ölçüsü üzrə qərar verin: ≤1600°C-də CVD SiC örtüyünə üstünlük verin; >2000°C və ya güclü aşındırıcı atmosferlər üçün TaC seçin; aşındırma və ultra yüksək təmizlik ssenariləri üçün Solid SiC-yə üstünlük verin.
Faktiki istehsal xəttini seçərkən mühəndislər ən çox soruşurlar: "Mənim GaN və ya SiC epitaksisi ilə işləyən Aixtron/Veeco avadanlığım üçün hansı temperaturda və hansı atmosferdə hansı örtükdən istifadə etməliyəm?" Cavab mürəkkəb deyil, lakin üç ölçü bir-biri ilə əlaqələndirilməlidir.
CVD SiC örtüyü hələ də struktur bütövlüyünü təxminən 2000–2100°C-dən aşağı saxlaya bilir. Bu diapazondan kənarda, uyğun olmayan buxarlanma (üstünlüklü silikon buxarlanması) baş verir, bu da səthin kobudlaşmasına və hissəciklərin artmasına səbəb olur. TaC örtüyü 3880°C-ə qədər yüksək ərimə nöqtəsinə malikdir və hətta 2400°C-dən yuxarı PVT kristallarının böyüməsi mühitlərində belə son dərəcə aşağı buxar təzyiqini saxlaya bilir. Bərk SiC-də örtük-substrat interfeysi problemi yoxdur və təkrar istilik zərbəsinə məruz qalan kamera komponentlərinin aşındırılması üçün uyğundur.
NH₃, H₂ və ya xlor əsaslı qazları olan mühitlərdə SiC örtüyü yaxşı işləyir, lakin SiC-nin yüksək temperaturlu hidrogenlə korroziya dərəcəsi TaC-dən əhəmiyyətli dərəcədə yüksəkdir. Eksperimental məlumatlar göstərir ki, yüksək temperaturlu ammonyakda TaC-nin korroziya dərəcəsi SiC-nin təxminən 1/6-sı, hidrogendə isə hətta 1/10 qədər aşağı ola bilər. Buna görə də, SiC epitaksisi və ya GaN MOCVD üçün standart şərtlər əsasən SiC örtüyündən istifadə edir, yüksək korroziya və ya ultra yüksək temperatur ssenariləri isə TaC-yə keçməlidir.
• GaN MOCVD / Si epitaksisi: Yüksək təmizlikli qrafitə üstünlük verin + CVD SiC örtüklü susseptor, əvvəlcədən qızdırılan halqa
• SiC PVT kristal böyüməsi: Qrafit isti zona komponentləri üçün TaC örtüyü tövsiyə olunur
• Plazma aşındırma (Focus Ring və s.): Hissəcik tələblərindən və qiymətdən asılı olaraq bərk SiC və ya SiC örtüklü qrafit mümkündür.
• Hissəciklərə qarşı son dərəcə həssas kameranın kritik hissələri: örtük interfeysi olmayan Bərk SiC-yə üstünlük verin
![]()
Şəkil 1 – VeTek Əsas Məhsul Sərgisi
Əsas Nəticə:VeTek, Aixtron G10, Veeco K465i, ASM Epsilon və s. kimi əsas platformaları əhatə edən müştəri təsvirləri və ya orijinal ehtiyat hissələri əsasında 1:1 fərdiləşdirməni dəstəkləyir. Standart məhsullar sürətlə göndərilə bilər; xüsusi hissələr adətən 3-6 həftə çəkir.
Bir çox mühəndislərin ən çox narahat etdiyi şey “onun hazırlana bilməyəcəyi” deyil, “onun orijinal hissələr qədər sabit, idarə olunan istehsal müddəti və tam yoxlama hesabatları mövcud olub-olmamasıdır”. VeTek-in əsas imkanlarından biri, əsas avadanlıq markaları ilə uyğun olaraq qalaraq, çertyojlara uyğun tam fərdiləşdirmədir.
Aşağıdakı cədvəl daxili texniki baxış və ya satınalmanın qiymətləndirilməsi üçün birbaşa istifadə edilə bilər:
|
Avadanlıq Markası |
Tipik Model |
Dəyişdirilə bilən hissələr |
Substrat Seçimi |
Kaplama Seçimi |
Ref. Ömür boyu |
|
Aixron |
G10 |
Qəbuledici, Preheat Ring |
Yüksək təmizlikli qrafit |
SiC |
500-1000 saat |
|
Veeco |
K465i |
Qəbuledici, Diversion Üzük |
Yüksək təmizlikli qrafit |
SiC/TaC |
300-800 saat |
|
ASM |
Epsilon seriyası |
Qəbuledici, Fokus halqası |
Bərk SiC |
Kaplama yoxdur |
2000+ saat |
|
AMEC |
Etcher |
Fokus Üzüyü, Yarım Ay |
Bərk SiC/Qrafit |
SiC |
Proseslə |
Faktiki layihələrdə biz tez-tez müştərilərdən orijinal ehtiyat hissələri və ya CMM çertyojları alırıq. Texniki komanda, istilik sahəsinin uyğunluğunu və ölçülü dözümlülükləri təsdiqlədikdən sonra substratın təmizliyi, örtük qalınlığı və səth pürüzlülüyü ilə bağlı tövsiyələr verəcək və müştərinin alətdə yoxlanılması üçün nümunələr verəcəkdir.
Əsas Nəticə:±5% daxilində idarə olunan qalınlığın vahidliyi, nəzəri dəyərə yaxın sıxlıq və idarə oluna bilən səth pürüzlülüyü toz tökülməsinin və hissəciklərin çirklənməsinin qarşısını almaq üçün əsasdır. Saflıq hədəfi 5 ppm-dən aşağıdır, kritik metal çirkləri GDMS/ICP-OES tərəfindən izlənilir.
Hissəciklərlə bağlı problemlər demək olar ki, hər bir epitaksiya mühəndisinin kabusudur. Kaplamada yerli nazik ləkələr, məsamələr və ya mikro çatlar olduqda, toz təkrarlanan istilik dövriyyəsi və aşındırıcı qaz hücumu altında töküləcək və vafli qüsur sıxlığını birbaşa yüksəldir.
Tipik CVD SiC örtüyünün qalınlığı 100–200 μm-dir. Proses parametri və axın sahəsinə nəzarət vasitəsilə VeTek qalınlığın vahidliyini ±5% daxilində sabitləşdirir. 1000-dən çox termal zərbə dövründən (otaq temperaturu ↔ 1100°C) sonra örtük heç bir təbəqələşmə göstərmir və ≤0.1/sm² hissəcik qüsurları üçün GaN MOCVD tələblərinə cavab verə bilər.
Kaplama və komponentlərin ümumi təmizliyi 5 ppm-dən aşağı ola bilər, bəzi məhsullar isə 99,99995%-ə çatır. Fe və Ni kimi kritik çirklərin epitaksial təbəqənin dopinqinə və ya daşıyıcı konsentrasiyasına müdaxilədən qaçaraq nəzarət edilə bilən səviyyələrdə qalmasını təmin etmək üçün iz metal analizi üçün ICP-OES və GDMS istifadə edirik.
CVD prosesi ilə əmələ gələn β-SiC polikristal təbəqəsi nəzəri dəyərə yaxın sıxlığa (təqribən 3,21 q/sm³) malikdir və son dərəcə aşağı məsaməliliyə malikdir. Səthin pürüzlülüyü (Ra) müştərinin proses tələblərinə uyğun olaraq tənzimlənə bilər, bu da hissəciklərin yaranması mənbəyinə çevrilməməsi ilə yanaşı, kifayət qədər mexaniki kilidlənməni təmin edir.
![]()
Şəkil 2 – CVD SiC Kaplaması üçün GDMS Təftiş Hesabatı
Əsas Nəticə:Mikro-stressi aradan qaldırmaq üçün ilkin çökmə sürətinə və axın sahəsinə dəqiq nəzarət etməklə, VeTek müştərinin MOCVD qrafit həssasının örtük məhsuldarlığını təxminən 50%-dən 90%-ə qədər yaxşılaşdırdı və xidmət müddətini əhəmiyyətli dərəcədə artırdı.
Bu, istehsal xəttində baş verən əsl hekayədir. Müştəri, kənarların sararması və bəzi qrafit həssaslarında soyulma meylinin olduğunu bildirdi, bu da partiyanın ümumi örtük məhsuldarlığının uzun müddət ərzində 50% ətrafında qalmasına səbəb olur, yüksək xəttə qulluq xərcləri və vafli riski ilə.
Doktor Xiaonun rəhbərlik etdiyi texniki qrup müdaxilə etdikdən sonra iki istiqamətə diqqət yetirildi: birincisi, ilkin mərhələdə çökmə sürəti çox sürətli idi, örtükdə daxili gərginliyin yığılmasına səbəb oldu; ikincisi, kənar və mərkəz bölgələri arasında axın sahəsi fərqləri yerli həddindən artıq qalınlığa və ya az qalınlığa səbəb oldu. MTS/H₂ nisbətini, çökmə temperaturu profilini və qurğu axını sahəsinin dizaynını optimallaşdırmaqla mikro gərginlik effektiv şəkildə azad edildi. Nəhayət, həmin partiyanın örtük məhsuldarlığı və sonrakı istehsal 90%-dən yuxarı stabilləşdi, müştərinin dəyişdirmə dövrü aydın şəkildə uzadıldı və hissəciklərdən şikayətlər əhəmiyyətli dərəcədə azaldı.
Bu hadisə nümayiş etdirir: “örtmək bacarığı” yalnız başlanğıc nöqtəsidir; “Sabit örtük, uzun müddət qalıcı və hissəcikləri idarə etmək” mühəndislərin diqqət yetirdiyi əsl dəyərdir. Məlumat hər hansı təşviqatdan daha yüksək səslə danışır.
![]()
Şəkil 3 – Vahid Səth Rəngi və Qüsurları olmayan Yüksək Təmizlikli CVD Silikon Karbidlə örtülmüş Qrafit Susseptor
Əsas Nəticə:Qapalı qrafit hissələri daha aşağı qiymətə və daha sürətli istilik reaksiyasına malikdir, əksər epitaksiya həssasları üçün uyğundur; Bərk SiC heç bir interfeys riskinə və daha güclü plazma müqavimətinə malik deyil, yüksək tələb olunan aşındırma komponentləri və ultra uzun ömür ssenariləri üçün uyğundur.
Bir çox seçim görüşləri ilə mübarizə aparır: örtülmüş qrafitdən istifadə etməli və ya birbaşa Solid SiC-ə getməliyik? İkisi sadəcə "hansı daha yaxşıdır" haqqında deyil, tətbiq ssenarisi ilə ümumi sahiblik dəyəri (TCO) arasında mübadilədir.
Qapalı qrafit hissələrinin üstünlükləri:Substratın yüksək istilik keçiriciliyi, sürətli istiləşmə, idarə olunan qiymət; örtük kimyəvi maneə və hissəciklərin yatırılmasını təmin edir. Yüksək istilik vahidliyi tələb edən böyük ölçülü GaN/SiC epitaksi qəbulediciləri üçün uyğundur.
Bərk SiC-nin üstünlükləri:Monolitik β-SiC örtük-substrat interfeysi, delaminasiya riski yoxdur; təmizlik 5N–7N-ə çata bilər, plazma eroziyasına qarşı üstün müqavimət, fokus halqaları və duş başlıqları kimi kritik aşındırma hissələri üçün uyğundur, istifadə müddəti 2000+ saata qədərdir.
Əsas Nəticə:Quraşdırma monitorinqi və anomaliya xəbərdarlığından peşəkar təmizləmə və bərpaya qədər, qapalı idarəetmənin formalaşdırılması TCO-nu əhəmiyyətli dərəcədə azalda və yeni hissələrin satınalma tezliyini azalda bilər. VeTek Aixtron/Veeco və digər avadanlıqlar üçün xüsusi təmizləmə xidmətləri təqdim edir.
Bir çox fabrik örtülmüş hissələri “istifadə et və at” kimi istifadə edir. Reallıqda peşəkar təmizləmə və regenerasiyadan sonra komponentlərin əhəmiyyətli bir hissəsi hissəcik səviyyəsinə və yeni hissələrə yaxın istilik performansına, xüsusən də Aixtron və Veeco platformaları üçün həssaslıqlara və əvvəlcədən qızdırma halqalarına bərpa edilə bilər.
Sadə bir həyat dövrü jurnalının yaradılması tövsiyə olunur: quraşdırma vaxtını, məcmu iş saatlarını, hər təmizləmədən sonra səthin vəziyyətini və hissəciklərin sınaq nəticələrini qeyd edin. Yalnız örtükdə açıq-aşkar saralma, yerli təbəqələşmə və ya hissəciklərin davamlı həddi aşması aşkar edildikdə, hiss əsasında vaxtından əvvəl qırılma deyil, dəyişdirmə qərarı verilməlidir.
![]()
Şəkil 4 – CVD SiC Kaplama Qrafit Hissələrinin Təmizlənməsi Xidməti
Əsas Nəticə:ISO9001 sisteminə, tam təftiş hesabatlarına (GDMS/ICP-OES), nümunə dəstəyinə, istehsal müddətində etibarlılığa və ingilis dilinin texniki ünsiyyət qabiliyyətinə diqqət yetirin. VeTek 24/7 dəstək və xaricdə müştəri xidməti təcrübəsinə malikdir.
Beynəlxalq müştərilər və ya ciddi təchizatçı ixtisas tələbləri olan fabriklər üçün aşağıdakı məqamlar xüsusilə vacibdir:
• Keyfiyyət sistemi: ISO9001, prosesə nəzarət edilir və izlənilə bilər.
• Təftiş qabiliyyəti: Kaplama və substrat üçün tam material təhlili hesabatları təqdim edin.
• Nümunələr və çatdırılma vaxtı: Nümunələrin qiymətləndirilməsini dəstəkləyin; standart məhsullar tez göndərilir, xüsusi hissələr adətən 3-6 həftə, təcili sifarişlər danışıqlar yolu ilə sürətləndirilə bilər.
• Texniki kommunikasiya: Həm satış, həm də mühəndislik qrupları ingilis dilində səlis ünsiyyət qura bilir və xaricdəki müştərilər üçün rabitə xərclərini azaldır.
• Satışdan sonra cavab: Kaplama və ya komponentlər anomaliyalar göstərdikdə texniki dəstək və nasazlıqların təhlili yardımı göstərin.
![]()
Şəkil 5 – VeTek Məhsul Sifarişinin Tam Prosesi
(1). Məhsul təsvirlər əsasında tam fərdiləşdirməni dəstəkləyirmi? Hansı əsas avadanlıq uyğun ola bilər?
Bəli. Aixtron G10, Veeco, ASM, AMEC, TEL kimi platformalara uyğun olan susseptor, əvvəlcədən qızdırılan halqa, təxribat halqası, yarım ay, fokus halqası və s.-ni fərdiləşdirə bilər.
(2). Təmizliyə necə zəmanət verilir? Metal çirkləri hansı səviyyədə idarə olunur?
Kaplama və komponentlərin təmizliyi 5 ppm-dən aşağı ola bilər, bəziləri 99,99995%-ə çatır. ICP-OES, GDMS və digər avadanlıqlar tam hesabatlarla birlikdə izlərin təhlili üçün istifadə olunur.
(3). CVD SiC/TaC örtüklərinin qalınlığının vahidliyi və xidmət müddəti haqqında nə demək olar?
Qalınlığın vahidliyi adətən ±5%, qalınlıq 100–200 μm daxilində idarə olunur. Müvafiq proses pəncərələri altında, GaN MOCVD həssaslığının ömrü 500-1000 saat aralığına çata bilər; ultra yüksək temperatur ssenariləri TaC və ya Solid SiC-ə keçid tələb edir.
(4). Nümunə testi dəstəklənirmi? Toplu sifarişlər üçün tipik çatdırılma müddəti nədir?
Nümunə qiymətləndirməsi dəstəklənir. Standart məhsullar tez göndərilə bilər; dizaynın mürəkkəbliyindən və həcmindən asılı olaraq xüsusi hissələr adətən 3-6 həftə çəkir. Təcili sifarişlər danışıqlar yolu ilə sürətləndirilə bilər.
(5). Hansı keyfiyyət sistemi sertifikatları mövcuddur? Təftiş hesabatları və satış sonrası dəstək təmin edilə bilərmi?
ISO9001 keyfiyyət idarəetmə sistemi mövcuddur. Material və örtük təhlili hesabatları, 24/7 onlayn texniki dəstək ilə təmin edilə bilər. Xaricdəki müştərilər üçün ingilis dilində ünsiyyət problemsizdir.
Seçim heç vaxt “ən bahalısını seçmək” və ya “ən qalını seçmək” deyil, “avadanlığınız, proses pəncərəniz və hissəcik büdcəniz altında ən yaxşı performans və xərc balansı ilə həll yolu tapmaq” haqqındadır. Ümid edirik ki, bu kitabça sizə tez bir zamanda qərarlar çərçivəsini yaratmağa kömək edəcək: əvvəlcə temperatur və atmosferə baxın, sonra örtük və ya Solid SiC-ni uyğunlaşdırın və nəhayət, məlumatlarla istifadə müddətini və hissəcik performansını təsdiqləyin.
Əgər siz Aixtron, Veeco və ya digər platformalarda susseptorlar, əvvəlcədən qızdırılan halqalar və ya isti zona komponentləri üçün əvəzetmə həllərini qiymətləndirirsinizsə, VeTek texniki komandası ilə birbaşa əlaqə saxlaya bilərsiniz. Biz çertyojlarınıza və ya mövcud ehtiyat hissələrinə əsasən fərdiləşdirmə tövsiyələri, nümunə dəstəyi və tam yoxlama hesabatları təqdim edə bilərik. Dr. Xiao və mühəndis komandası istənilən vaxt sizinlə istilik sahəsinin optimallaşdırılması və ya xüsusi struktur inkişafı ehtiyaclarını müzakirə etməyə hazırdır.
Məhsul təfərrüatları və daha çox texniki məlumat üçün zəhmət olmasabizimlə əlaqə saxlayın.
1. VeTek Yarımkeçirici daxili mühəndislik məlumatları — GaN MOCVD prosesində SiC ilə örtülmüş qrafit qəbuledicinin ömrü 500-1000 saat, kənarların sararmasını aradan qaldırdıqdan sonra örtük məhsuldarlığı 50%-dən 90%-ə qədər yaxşılaşmışdır və digər praktik hallarda [1].
2. T/CASME 2000-2025 Yarımkeçirici Epitaksiya üçün Silikon Karbid Kaplı Qrafit Alıcılar üçün Texniki Spesifikasiya — Yarımkeçirici məhsullara tətbiq oluna bilən yüksək təmizlikli izostatik qrafit substratlarında CVD prosesi ilə hazırlanmış SiC ilə örtülmüş qrafit qəbulediciləri üçün texniki tələbləri müəyyən edir.
3. T/CASME 2085-2025 Silikon Karbid Kristal Artımı üçün Tantal Karbidlə Örtülmüş Məhsullar üçün Texniki Spesifikasiya — SiC kristal artım ssenarilərində TaC ilə örtülmüş qrafit məhsulları üçün texniki spesifikasiya.
4. Nakamura et al., “Qrafit substratlarda sinterlənmiş tantal karbid örtükləri: toplu və epitaksial böyümə üçün yüksək etibarlı qoruyucu örtüklər,” Applied Physics Letters, Vol. 106, 082108, 2015. — Təsdiq edir ki, TaC örtükləri yüksək temperaturda (>2000°C) və güclü korroziyaya məruz qalan atmosferdə qrafit altlıqları effektiv şəkildə qoruya bilir və SiC örtükləri ilə aydın performans sərhədi yaradır.
5. Wang et al., “The effects of the carbonized bufer layer on the artım SiC on Si,” Journal of Crystal Growth, Vol. 199, s. 564–567, 1999. — Scopus və Web of Science tərəfindən indeksləşdirilmiş SiC CVD artım prosesində bufer qatının effektlərini və səth morfologiyasına nəzarəti müzakirə edir.
Qeyd: Mətndə istifadə müddəti və performans məlumatları tipik istinad dəyərləridir. Faktiki performansa xüsusi proses şərtləri, avadanlığın vəziyyəti və texniki xidmət səviyyəsi təsir edir. Zəhmət olmasa faktiki ölçmələrlə yoxlayın.
Müəllif:VeTek Yarımkeçirici Texniki Mühəndislik Komandası (Dr. Xiaonun rəhbərliyi altında tamamlandı)
Əlavə texniki müzakirə və ya nümunə qiymətləndirməsi üçün rəsmi internet saytı vasitəsilə bizimlə əlaqə saxlayın.
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Çin
Copyright © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co.,Ltd. Bütün hüquqlar qorunur.
Links | Sitemap | RSS | XML | Məxfilik Siyasəti |