Yarımkeçirici Seramik Nozzle

Yarımkeçirici keramika nozzle mühüm rol oynayırHDP-CVD prosesi, qaz axınını dəqiq idarə etmək və təmin etmək üçün istifadə olunurYüksək keyfiyyətli film çəngəl. Seramik burun spreyi, qazın reaksiya kamerasına daxil olduğu zaman mümkün turbulentliyi minimuma endirərək, ardıcıl və idarə olunan qaz axını sürətlərini təmin etmək üçün dəqiq şəkildə hazırlanmışdır.

Texniki xüsusiyyətlər:

1.Material tərkibi:

VeTeK Yarımkeçirici Keramika qum püskürtmə ucluğu adətən alüminium oksid (Al2O3) kimi yarımkeçirici keramikadan hazırlanır.silikon karbid (sic), və ya sirkonium oksidi (ZrO2), bu materiallar əla xüsusiyyətlərə malikdir:

    • yüksək istilik sabitliyi (1000℃-dən yuxarı temperaturlara davam edə bilər)

    • istifadə olunan reaktiv qazların korroziyaya qarşı müqavimətiCVD prosesləri(Silane, ammonyak) kimi)

    • davamlı plazma məruz qalma müqaviməti.

2. Struktur dizayn:

    • Oriftie Ölçüsü: Yarımkeçirici keramika nozzle'nin yırtığı, qaz axınının dəqiq nəzarətini təmin etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur, bu da növbə filmin vahidliyinə və qalınlığına təsir göstərir.

    • Bucaqlar və Həndəsələr: Dəqiq şəkildə döşənmiş təbəqədəki qüsurları minimuma endirərək, substrat üzrə vahid qaz paylanmasını təmin etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur.

Yarımkeçiricilər sənayesində, Yarımkeçirici keramika partlayıcı nozzle əsasən HDP-CVD prosesində əsas rol oynayır. Onlar həmçinin mikroelektronika istehsalı üçün nazik filmləri yerləşdirmək üçün istifadə olunur, eyni zamanda çirkləndiricilərdən təmizlənmiş yüksək keyfiyyətli səth örtüklərini təmin edir.

Vetek yarımkeçirici keramika nozzle dükanları: