ALD əridilmiş kvars postamenti

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal yarımkeçirici istehsal prosesində əsas rol oynayır.kvartz qayığıtutmaq üçün istifadə olunankövrək. Fused Quartz Pedestal yarımkeçirici cihazların işinə və etibarlılığına birbaşa təsir edən sabit temperaturu saxlamaqla vahid film çökməsinə nail olmağa kömək edir. Bundan əlavə, Kvars Pedestal proses kamerasında istilik və işığın vahid paylanmasını təmin edir və bununla da çökmə prosesinin ümumi keyfiyyətini yaxşılaşdırır.

ALD əridilmiş kvars postament materialının üstünlükləri

Yüksək temperaturda müqavimət: Əridilmiş kvars postamentinin yumşalma nöqtəsi təxminən 1730°C-dir və o, 1100°C-dən 1250°C-dək yüksək temperaturda işləməyə uzun müddət davam edə bilər və 1450°C-ə qədər ekstremal temperatur mühitinə məruz qala bilər. qısa müddətə.

Əla korroziyaya qarşı müqavimət: Foreed kvars, hidrofluor turşusu istisna olmaqla, demək olar ki, bütün turşulara yüksək kimyəvi cəhətdən inertdir. Turşu müqaviməti keramikadan 30 qat yüksəkdir və paslanmayan poladdan 150 dəfə yüksəkdir. Fore Thered Kvars, kimyəvi cəhətdən yüksək temperaturda, mürəkkəb kimyəvi proseslər üçün ideal bir material halına gətirir.

İstilik sabitliyi: Ərimiş Kvars Altlıq materialının əsas xüsusiyyəti onun son dərəcə aşağı istilik genişlənmə əmsalıdır. Bu o deməkdir ki, o, krekinq olmadan dramatik temperatur dalğalanmalarını asanlıqla idarə edə bilər. Məsələn, əridilmiş silisium kvars tez bir zamanda 1100°C-yə qədər qızdırıla bilər və zədələnmədən birbaşa soyuq suya batırıla bilər ki, bu da yüksək gərginlikli istehsal şəraitində mühüm xüsusiyyətdir.

Ciddi istehsal prosesi: Feded silisium piyada sahələrinin istehsal prosesi yüksək keyfiyyətli standartlara ciddi əməl edir. İstehsal prosesi, ümumiyyətlə 10.000 təmizlik mühitində bir sinifdə tamamlanan isti formalaşdırma və qaynaq proseslərindən istifadə edir. Bundan sonra, əridilmiş kvars şüşə piyadalı, məhsul saflığı və optimal performans təmin etmək üçün ultrapur suyu (18 mω) ilə hərtərəfli təmizlənir. Hər bitmiş məhsul ciddi şəkildə yoxlanılır, təmizlənir və yarımkeçirici sənayesinin yüksək standartlarına cavab verən 1000 və ya daha yüksək təmizlik otağında qablaşdırılır.

Yüksək təmizlikdə qeyri-şəffaf silisium kvars materialı

Veteksemi Ald Fored Kvars Pedestal, istilik və işığı səmərəli təcrid etmək üçün yüksək saflıq şəffaf kvars materialından istifadə edir. Əla istilik qoruyucu və işıq qoruyucu xüsusiyyətləri, incə və ardıcıllığını təmin edən müddətdə vahid temperatur paylamasını təmin etməyə imkan verirfilmin yerləşdirilməsivafli səthində.

Tətbiq Sahələri

Ərimiş kvars postamentləri əla performansına görə yarımkeçirici sənayenin bir çox sahələrində geniş istifadə olunur. ildəatom təbəqəsinin çökməsi (ALD) prosesi, o, filmin böyüməsinə dəqiq nəzarəti dəstəkləyir və yarımkeçirici cihazların inkişafını təmin edir. ildəAşağı təzyiqli kimyəvi buxarlanma (LPCVD) prosesi, Termal sabitliyi və yüngül kvars piyası pambığının termal sabitliyi və işıq qabiliyyəti, nazik filmlərin vahid çökməsinə zəmanət verir və bununla da cihazın performansını və məhsuldarlığını yaxşılaşdırmaq üçün zəmanət verir.

Bundan əlavə, diffuziya vaflisi prosesində Fused Quartz Pedestal-in yüksək temperatur müqaviməti və kimyəvi korroziyaya davamlılığı yarımkeçirici materialın dopinq prosesinin etibarlılığını və ardıcıllığını təmin edir. Bu əsas proseslər yarımkeçirici cihazların elektrik göstəricilərini müəyyənləşdirir və yüksək keyfiyyətli Fused Quartz materialları bu proseslərin ən yaxşı nəticələrinin əldə edilməsində əvəzsiz rol oynayır.

Vetek Yarımkeçirici Ald, Kuartz Pedestal Dükanları əridildi: