Aixtron Mocvd tərəfdarı

Tərəfindən istehsal olunan həssaslıqlarVetek yarımkeçiriciqrafit substratdan və silisium karbid (SiC) örtük materialından hazırlanır. SiC materialının daha yüksək aşınma müqavimətini, korroziyaya davamlılığını və son dərəcə yüksək sərtliyini nəzərə alaraq, o, xüsusilə sərt proses mühitlərində istifadə üçün uygundur. Buna görə də, Vetek Semiconductor tərəfindən istehsal olunan Susseptorlar əlavə səth müalicəsi olmadan birbaşa yüksək temperaturlu MOCVD proseslərində istifadə edilə bilər.

Suseptors, xüsusən incə film çökmə prosesləri üçün mocvd avadanlıqlarında yarımkeçirici istehsalda əsas komponentlərdir. Əsas roluAixtron: Beləliklə, dəstəkMOCVD prosesində yarımkeçirici vaflilərin daşınması, vahid istilik paylanması və reaksiya mühiti təmin etməklə nazik təbəqələrin vahid və yüksək keyfiyyətli çökdürülməsini təmin etmək və bununla da yüksək keyfiyyətli nazik təbəqə istehsalına nail olmaqdır.

Aixtron Mocvd tərəfdarıadətən çökmə prosesi zamanı vaflinin dayanıqlığını təmin etmək üçün yarımkeçirici vaflilərin əsasını dəstəkləmək və bərkitmək üçün istifadə olunur. Eyni zamanda, Aixtron MOCVD Susceptor-un səth örtüyü yüksək istilik keçirici material olan silisium karbidindən (SiC) hazırlanır. SiC örtüyü vaflinin səthində vahid temperatur təmin edir və yüksək keyfiyyətli filmlər əldə etmək üçün vahid istilik vacibdir.

Üstəlik,Aixtron Mocvd tərəfdarıbiz istehsal etdiyimiz materialların optimallaşdırılmış dizaynı vasitəsilə reaktiv qazların axını və paylanmasına nəzarət etməkdə daha böyük rol oynayır. Filmin vahid çökməsinə nail olmaq üçün burulğan cərəyanlarından və temperatur gradientlərindən çəkinin.

Daha da əhəmiyyətlisi, MOCVD prosesində silisium karbid (SiC) örtük materialı korroziyaya davamlıdır, buna görə dəVetek yarımkeçiricininAixtron Mocvd tərəfdarıYüksək temperatur və aşındırıcı qazlara da tab gətirə bilər.

Əsas fiziki xüsusiyyətləriSIC QAPLAMA:

VeTek Semiconductor Wafer Boat mağazaları:

Yarımkeçirici çip epitaksi sənayesi zəncirinin icmalı: