Tantalum karbid örtük örtüyü

Vetek yarımkeçiricisində Çindən Tantalum Karbid örtüklü örtüyünün böyük bir seçimini tapın. Peşəkar satışdan sonrakı xidmət və düzgün qiymət təmin etmək, əməkdaşlığı gözləyirik. Yüksək keyfiyyətli materiallardan istifadə edərək diqqətlə hazırlanmış və ən yüksək dəqiqliklə istehsal olunan, metal üzvi kimyəvi buxarlanma (MOCVD) prosesləri üçün görkəmli performans və etibarlılığı təmin edir.

Kimyəvi buxar çökməsi (CVD) tantalum karbid (TAC) ilə örtülmüş bir qrafit substratu ilə tikilmiş, tantal karbid örtüklü örtük müstəsna istilik sabitliyi, yüksək saflıq və yüksək temperaturlara qarşı müqavimət göstərir. Bu unikal materialların birləşməsi MOCVD sisteminin tələb olunan əməliyyat şərtləri üçün etibarlı bir həll təmin edir.

Tantalum karbid örtüklü örtük müxtəlif yarımkeçirici gofret ölçülərini uyğunlaşdırmaq, müxtəlif istehsal tələblərinə uyğun hala gətirmək üçün özelleştirilebilir. Onun möhkəm inşası, çətin MOCVD mühitinə, uzunmüddətli performansını təmin etmək və gofret daşıyıcıları və həssaslıqları ilə əlaqəli təmir və təmir xərclərini minimuma endirmək üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır.

Tac örtüyünü Aixtron G10 MOCVD sisteminə daxil etməklə yarımkeçirici istehsalçılar daha yüksək səmərəlilik və üstün nəticələr əldə edə bilərlər. Fövqəladə istilik sabitliyi, fərqli vafli ölçüləri ilə uyğunluq və planetar diskin etibarlı performansı, istehsal səmərəliliyini optimallaşdırmaq və MOCVD prosesində görkəmli nəticələr əldə etmək üçün əvəzolunmaz bir vasitə halına gətirir.