Yarımkeçirici avadanlıqlarda kvars komponentlərinin tətbiqi

Kvars məhsullarıYüksək saf, yüksək temperaturlu müqavimət və güclü kimyəvi sabitlik səbəbindən yarımkeçirici istehsal prosesində geniş istifadə olunur.

1.Qarsz çarpaz

Tətbiq - Monokristal silikon çubuqlarını çəkmək üçün istifadə olunur və silikon vafli istehsalında bir əsas istehlak olunur.

Kvars çarxlarımetal çirkləri ilə çirklənməni azaltmaq üçün yüksək saflıq kvars qumundan (4n8 sinif və yuxarı) hazırlanmışdır. Yüksək temperaturlu sabitliyə (ərimə nöqtəsi> 1700 ° C) və istilik genişlənməsinin aşağı əmsalı olmalıdır. Yarımkeçirici sahədə kvars çarxları əsasən silikon tək kristalların istehsalı üçün istifadə olunur. Onlar polikristal silikon xammalını yükləmək üçün istehlak kvars konteynerləridir və kvadrat və dəyirmi növlərə bölünə bilər. Meydanlılar policrystalline silikon külçələrinin tökülməsi üçün istifadə olunur, dəyirmi olanlar isə monokristal silikon çubuqların rəsmləri üçün istifadə olunur. Yüksək temperaturdan tab gətirə bilər və silikon tək kristalların təmizliyini və keyfiyyətini təmin edərək kimyəvi sabitliyi qoruya bilər.

2. Kvars soba boruları

Kvars borularıYüksək temperatur müqavimətləri (uzunmüddətli əməliyyat temperaturu 1100 ° C-dən çox), kimyəvi korroziya müqaviməti), yüksək saflıqdan başqa bir neçə reagentdən başqa) və əla yüngül ötürmə kimi (xüsusən də ultrabənövşəyi şüalara) qədər) Əsas ssenarilər, boşalma istehsalının bir çox əsas proses bağlantısında cəmləşmişdir.

Əsas tətbiq bağlantıları:Diffuziya, oksidləşmə, CVD (kimyəvi buxarlanma çökməsi)

Məqsəd:

• Diffuziya borusu: Yüksək temperaturlu diffuziya proseslərində istifadə olunur, dopinq üçün silikon gofret daşıyır.
• Ocaq borusu: Yüksək temperaturlu oksidləşmə müalicəsi üçün oksidləşmə sobasında kvars qayıqlarını dəstəkləyir.

Xüsusiyyətlər:

Yüksək saflıq (metal ion ≤1ppm) və yüksək temperaturlu deformasiya müqaviməti (1200 ° C-dən yuxarı) tələblərinə cavab verməlidir.

3. Kvars büllur gəmisi

Fərqli avadanlıqlardan asılı olaraq şaquli və üfüqi növlərə bölünür. Fərqli FAB istehsal xəttlərindən asılı olaraq, ölçüsü diapazonu 4 ilə 12 düymdür. Yarımkeçirici ICS istehsalında,kvars kristal qayıqlarıəsasən vaffer transfer, təmizlik və emal proseslərində istifadə olunur. Yüksək təmizlik və yüksək temperaturlu davamlı vafli daşıyıcı kimi, əvəzsiz rol oynayırlar. Ocağın borusunun yayılması və ya oksidləşmə prosesində, birdən çox wafter kvars büllur qayıqlarına yerləşdirilir və sonra toplu istehsal üçün soba borusuna atılır.

Yarımkeçiricilərdəki injektorlar əsasən qaz və ya maye materialları dəqiq nəql etmək üçün istifadə olunur və nazik film çöküntüsü, tirzulama və doping kimi bir çox əsas proses bağlantısında tətbiq olunur.

Silikon tranzistoru və inteqrasiya olunmuş dövrə istehsalının təmizlənməsi prosesində silikon wafters aparmaq üçün istifadə olunur və silikon gofretinin təmizlik prosesi zamanı çirklənməməsini təmin etmək üçün turşu və qələvi davamlı olmalıdır.

6. Kvars flanşları, kvars üzükləri, diqqət üzüklər və s

Yarımkeçirici etching proseslərində, digər kvars məhsulları ilə birlikdə istifadə olunur, digər kvars məhsulları ilə birlikdə boşluğun möhürlənmiş qorunmasını yaxından ətrafı yaxından ətrafı, infermə istehsal prosesində müxtəlif çirklənmələrin qarşısını alır və qoruyucu rol oynayır.

Kvars zəng bankalarıYarımkeçirici sənayesində ümumiyyətlə istifadə olunan əsas komponentlər, yüksək temperaturda müqavimət göstərən, korroziya müqaviməti və yüksək işıq ötürmə qabiliyyətidir. Polisilicon istehsalında yüksək təmizlik trichlorosilane müəyyən bir nisbətdə hidrogenlə qarışdırılır və daha sonra bir kvars zəng örtüyü ilə təchiz olunmuş bir kvars bell örtüyü ilə təchiz olunmuşdur, burada polisiliconu depozitli silikon nüvəsindəki bir kvars zəng örtüyü ilə təchiz olunmuşdur.

8. Kvars yaş təmizləyici tank

Tətbiq mərhələsi: Silikon gofretlərinin yaş təmizlənməsi

İstifadəsi: turşu yuma (HF, H₂so₄ və s.) Və ultrasəs təmizlənməsi üçün istifadə olunur.

Xüsusiyyətlər: güclü kimyəvi sabitlik və güclü turşu korroziyasına qarşı müqavimət.

9. Kvars maye kolleksiya şüşəsi

Maye kolleksiya şüşəsi əsasən nəm təmizləyici prosesində tullantı maye və ya qalıq maye toplamaq üçün istifadə olunur

Wafters (məsələn, RCA təmizlənməsi, SC1 / SC2 təmizlənməsi kimi) nəm təmizlənməsi zamanı (məsələn, SC1 / SC2 təmizlənməsi), boşqabları yumaq üçün çox miqdarda ultrapur su və ya reagent tələb olunur və ara-sıra, izləmədən sonra qalıq maye istehsal ediləcək. Bəzi örtük proseslərindən sonra (fotorezist örtük kimi), artıq mayelər (məsələn, fotoresist tullantı maye) kimi toplanacaqdır.

Funksiya kvars maye kolleksiya şüşələri bu qalıq və ya tullantı mayelərini, xüsusən də "yüksək dəqiqlikli təmizləyici addım" da (məsələn, yüksək dəqiqlik səthinin müalicə mərhələsi kimi), burada, sonrakı analizə ehtiyacı olan az miqdarda yüksək dəyərli reagent və çirklərin ola biləcəyi "vafli səthinin müalicəsi mərhələsi kimi" ni (yüksək dəqiqlikli təmizləyici mərhələsi) toplamaq üçün istifadə olunur. Kvars şüşələrinin aşağı çirklənməsi qalıq mayenin yenidən çirklənmiş, sonrakı bərpa olunmasının (məsələn, reagent təmizlənmə) və ya dəqiq aşkarlanması kimi (məsələn, qalıq mayedə çirklərin təhlili kimi).

Bundan əlavə, sintetik kvars materiallarından hazırlanmış kvars maskaları fotolitoqrafiya şəklində nümunə transfer üçün fotolitoqrafiya maşınlarının "mənfi cəhətləri" şəklində tətbiq olunur. İncə filmin qalınlığını izləmək və bir çox digər aspektlər arasında incə filmin qalınlığını izləmək üçün nazik film çöküntüsü (PVD, CVD, ALD) istifadə olunur və bir çox digər aspektlər arasında çökmə vahidliyini təmin etmək üçün istifadə olunur.

Sonda, kvars məhsulları, monokrilin silikon (kvars maskaları), tithing (kvars üzükləri), incə film çöküntüsü (kvars kristal osilatörləri) və incə fiziki və kimyəvi xüsusiyyətlərinə) qədər olan yarımkeçirici istehsalın bütün prosesi boyunca demək olar ki, mövcuddur. Yarımkeçirici proseslərin təkamülü ilə, saflıq, temperaturun müqavimətinə və kvars materiallarının ölçülü dəqiqliyi üçün tələblər daha da inkişaf etdiriləcəkdir.