Yüksək Saflıqda Silisium Karbid (SiC) Tozu

Əsas Xüsusiyyətlər
• Təmizlik 99,9999%-ə çata bilər — bu, 6N-dir

• Metal çirkləri aşağı səviyyədə saxlanılır

• GDMS test məlumatları sorğu əsasında mövcuddur

• Sublimasiya davranışı partiyadan partiyaya ardıcıl olaraq qalır

• Emal zamanı daha az çirklənmə riski

• Hissəcik ölçüsünün paylanmasına nəzarət edilir

• Siz həmçinin fərdiləşdirilmiş hissəcik ölçülərini istəyə bilərsiniz

• Keyfiyyətə nəzarət yarımkeçirici dərəcəli standartlara uyğundur

Hissəcik Ölçüsü Aralığı:

Toz təmizliyi: 

Texniki Spesifikasiyalar:

Tətbiqlər

• SiC Tək Kristal Artımı (PVT)

• Keçirici və Yarımizolyasiya edən SiC Substratlar

• Yarımkeçirici materiallar

• Təkmil keramika

• Tədqiqat və İnkişaf

Niyə VeTek Semiconductor seçməlisiniz?

• Qabaqcıl təmizləmə texnologiyası

• Yarımkeçirici keyfiyyətə nəzarət

• Fərdi hissəcik ölçüsü variantları

• Stabil və etibarlı təchizat

• Kristal artım tətbiqləri üçün texniki dəstək