Məsaməli sic keramika plakası

Məsaməli sic keramika plakası, hazırlanan keramika materialı olan məsaməli bir quruluşdursilikon karbidəsas komponent kimi və xüsusi bir sinerləmə prosesi ilə birləşdirilmişdir. Onun məsaməsi tənzimlənir (adətən 30% -70%), məsaməli ölçülü paylama, əla yüksək temperaturda müqavimət, kimyəvi sabitlik və əla qaz keçiriciliyi, kimyəvi buxarlanma (CVD), yüksək temperaturlu qaz filtrasiyası və digər sahələrdə geniş istifadə olunur.

Məsaməli SIC keramika nömrəsi haqqında daha çox məlumat üçün bu blogu nəzərdən keçirin.

Məsaməli sic keramika diskƏla fiziki xüsusiyyətlər

● Həddindən artıq yüksək temperatur müqaviməti:

SIC keramikasının ərimə nöqtəsi 2700 ° C qədərdir və hələ də 1600 ° C-dən yuxarı, ənənəvi alüminion keramika (təxminən 2000 ° C), yarımkeçirici yüksək temperatur prosesləri üçün uyğundur.

● Əla istilik idarəetmə performansı:

✔ Yüksək istilik keçiriciliyi: sıx sic istilik keçiriciliyi təxminən 120 w / (m · k). Məsaməli quruluş istilik keçiriciliyini biraz azaltmasına baxmayaraq, çox keramikalardan daha xeyirlidir və səmərəli istilik dağılmasını dəstəkləyir.

✔ Aşağı istilik genişləndirmə əmsalı (4.0 × 10⁻⁶ / ° C): Termal stres nəticəsində yaranan cihaz çatışmazlığından qaçaraq, yüksək temperaturda demək olar ki, heç bir deformasiya yoxdur.

● Əla kimyəvi sabitlik

Turşu və qələvi korroziya müqaviməti (xüsusən də HF mühitində), yüksək temperatur turşusu oksidləşmə müqaviməti, incə və təmizlik kimi sərt mühitlərə uyğundur.

● Görkəmli mexaniki xüsusiyyətlər

✔ Yüksək sərtlik (MOHS sərtliyi 9.2, yalnız almaz üçün ikinci), güclü aşınma müqaviməti.

✔ əyilmə gücü 300-400 mpa çata bilər və məsamə quruluşu dizaynı həm yüngül, həm də mexaniki gücü nəzərə alır.

● Funksionallaşdırılmış məsaməli quruluş

✔ Yüksək xüsusi səth sahəsi: Bir reaksiya qaz paylama nömrəsi kimi uyğun qaz diffuziya səmərəliliyini artırın.

✔ Nəzarət edilə bilən Yalançı: CVD prosesində vahid film meydana gəlməsi kimi maye nüfuz və filtrasiya performansını optimallaşdırın.

Yarımkeçirici istehsalda xüsusi rol

● Yüksək temperatur prosesi dəstəyi və istilik izolyasiyası

Bir gofret dəstəyi boşqab kimi, metal çirklənməmək üçün diffuziya sobaları və yandırma sobaları kimi yüksək temperatur avadanlıqlarında (> 1200 ° C) istifadə olunur.

Məsaməli quruluşun istilik itkisini azaltmaq, həm izolyasiya, həm də dəstək funksiyaları var.

● Vahid qaz paylanması və reaksiya nəzarəti

Kimyəvi buxar çöküntüsündə (CVD) avadanlıqlarında, qaz paylayıcı boşqab kimi, məsamələr nazik film çöküntüsünün vahidliyini yaxşılaşdırmaq üçün məsamələr, reaktiv qazları (məsələn, Sih₄, NH₃ kimi) bərabər şəkildə nəql etmək üçün istifadə olunur.

Quru titreymədə, məsaməli quruluş plazma paylamasını optimallaşdırır və etching dəqiqliyini artırır.

● Elektrostatik Chuck (ESC) Core komponentləri

Məsaməli SIC, mikroporlar vasitəsilə vakuum adsorbsiyasına nail olan elektrostatik Chuck substratı olaraq istifadə olunur və plazma bombardmanına dəqiq bir şəkildə davamlıdır və uzun bir xidmət həyata davamlıdır.

● Korroziyaya davamlı komponentlər

Yaş ilting və təmizləyici qurğuların boşluğu üçün istifadə olunur, bu, güclü turşular (məsələn, HNO₃, HNO₃) və güclü qələvi (məsələn, Koh) kimi) korroziyaya qarşıdır.

● Termal sahə vahidliyi nəzarəti

Bir kristal silikon böyümə sobalarında (czochralski metodu kimi), bir istilik qalxanı və ya dəstəyi kimi, yüksək istilik sabitliyi kimi yüksək istilik sabitliyi kimi istifadə olunur və lattice qüsurlarını azaltmaq üçün istifadə olunur.

● Filtrasiya və təmizlənmə

Məsaməli quruluş hissəcik çirkləndiricilərini qarışdıra bilər və proses təmizliyini təmin etmək üçün ultra təmiz qaz / maye çatdırılma sistemlərində istifadə olunur.

Ənənəvi materiallar üzərində üstünlüklər