PAN əsaslı karbon lifli yumşaq keçə

1. Əsas Performans Faktorları

• Yüksək təmizlik:Həssas yarımkeçiricilərin böyüməsi zamanı çirklənmənin qarşısını almaq üçün kül tərkibi 20 ppm-dən aşağı saxlanılan yüksək təmizlik dərəcələri.
• Termal Effektivlik:25°C-də 0,1-0,13 Vt/(m*k) aşağı istilik keçiriciliyi sabit temperatur gradientlərini saxlayır və enerji itkisini azaldır.
• İstilik müqaviməti:2200°C-dən yuxarı mühitlərdə belə etibarlı dayanıqlıq.
• Struktur bütövlüyü:Bizim hava reaktiv formalaşdırma prosesimiz lifləri bərabər saxlayır. Bu, tez-tez uzun böyümə dövrlərini pozan qaynar nöqtələrin və material yorğunluğunun qarşısını alır.  

3. Proqramlar

Yarımkeçiricilərin istehsalı:Bu monokristal silisium və SiC kristal inkişaf sobası quraşdırmaları üçün əsas izolyasiya təbəqəsidir.

Fiber Optik Rabitə:Sinterləmə sobalarında, çəkmə qüllələrində və yüksək temperaturda çubuq istehsalında istifadə üçün idealdır.

Qabaqcıl Tədqiqat:Safir yetişdirmə sobalarına və xüsusi yüksək temperaturlu təmizləmə sistemlərinə etibar edilir.

4. Niyə VETEK-i seçməlisiniz?

Daha sürətli məhsuldarlıq:Aşağı spesifik istilikli materiallardan istifadə etməklə biz termal velosiped sürməyi daha sürətli etdik – bu, gündəlik ötürmə qabiliyyətinizi birbaşa artırır.

Etibarlı Qoruyucu:Bizim istehsal diqqətimiz lif sıxlığına ciddi nəzarətdir; biz zəif nöqtələri aradan qaldırırıq ki, siz bütün kamerada etibarlı qoruyucu əldə edəsiniz.

HPSI Standartları:HPSI və RF prosesləri üçün yüksək təmizlik standartlarımız bu həssas, yüksək müqavimət tələblərini yerinə yetirmək üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır.
Sadə Quraşdırma:Material təbii olaraq çevik olduğundan, mürəkkəb həndəsələrə uyğun olaraq dəqiq şəkildə kəsilə bilər ki, bu da həqiqətən bütün quraşdırma prosesini sadələşdirməyə kömək edir.