Xəbərlər

Diamond, potensial dördüncü nəsil "Ultimate Yarımkeçirici", müstəsna sərtliyi, istilik keçiriciliyi və elektrik xüsusiyyətləri səbəbindən yarımkeçirici substratlarda diqqət yetirir. Yüksək dəyəri və istehsal problemləri onun istifadəsini məhdudlaşdırarkən, CVD üstünlük verilən üsuldur. Dopinq və geniş ərazi büllur problemlərinə baxmayaraq, almaz vəd edir.

SiC və GaN daha yüksək qırılma gərginliyi, daha sürətli keçid sürəti və üstün səmərəlilik kimi silisiumla müqayisədə üstünlükləri olan geniş diapazonlu yarımkeçiricilərdir. SiC yüksək istilik keçiriciliyinə görə yüksək gərginlikli, yüksək güclü tətbiqlər üçün daha yaxşıdır, GaN isə üstün elektron hərəkətliliyi sayəsində yüksək tezlikli tətbiqlərdə üstündür.

Elektron şüası ilə buxarlanma, buxarlanma materialını elektron şüa ilə qızdıraraq, onun buxarlanmasına və nazik bir təbəqə halına gəlməsinə səbəb olan müqavimətli qızdırma ilə müqayisədə yüksək səmərəli və geniş istifadə olunan bir örtük üsuludur.

Vakuum örtükləri film materialının buxarlandırılması, vakuum nəqliyyat və nazik film böyüməsi daxildir. Fərqli film maddi buxarlanma metodları və nəqliyyat proseslərinə görə, vakuum örtükləri iki kateqoriyaya bölmək olar: PVD və CVD.

Bu məqalədə Vetek yarımkeçiricinin məsaməli qrafitinin fiziki parametrləri və məhsul xüsusiyyətlərini, habelə yarımkeçirici emalda xüsusi tətbiqləri təsvir edilmişdir.

Bu məqalədə tantal karbid örtüyü və silikon karbid örtüklərinin məhsul xüsusiyyətlərini və tətbiqi ssenarilərini bir çox perspektivdən təhlil edir.